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簡(jiǎn)介：美國(guó)KRI考夫曼公司新升級(jí)GriddedKDC系列離子源,新的特性包含自對(duì)準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制.考夫曼離子源KDC系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用.考夫曼離子源KDC提供一套完整的方...

簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRi射頻離子源RFICP系列,無(wú)需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)!射頻源RFICP系列提供完整的系列,包含離子源本體,電子供應(yīng)器,中...

簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRI大口徑射頻離子源RFICP380,3層?xùn)艠O設(shè)計(jì),柵極口徑38cm,提供離子動(dòng)能100-1200eV寬束離子束,套裝包含離子源本體和電源控制器.

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC160是目前考夫曼KDC系列,離子能量的柵極離子源

簡(jiǎn)介：KRI考夫曼離子源KDC100上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC100中型規(guī)格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產(chǎn)設(shè)備中,考夫曼離子源KDC100采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵極,標(biāo)準(zhǔn)配置...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI霍爾離子源eH200是霍爾離子源型eH系列中尺寸最小,低成本設(shè)計(jì)離子源.霍爾離子源eH200適用于小型真空腔內(nèi),例如研發(fā)分析,薄膜沉積和離子清洗.霍爾離子源eH200操作...

簡(jiǎn)介：KRIIonSource應(yīng)用領(lǐng)域：無(wú)柵極等離子源技術(shù)----End-Hall離子/等離子源有柵極離子源技術(shù)----RFICP離子源

簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRI考夫曼離子源提供多個(gè)類型的低能量高密度的電子源,從簡(jiǎn)單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應(yīng)用在等離子和離子工藝中的陰極和陽(yáng)極中和器,通過技術(shù)完成電子的發(fā)射,測(cè)量和束流控制,廣泛...

簡(jiǎn)介：伯東公司是美國(guó)考夫曼公司Kuafman&Robinson,Inc（KRI）中國(guó)總代理.KRI考夫曼公司是由離子源發(fā)明人Dr.Kaufman考夫曼博士于1978年在美國(guó)創(chuàng)立.KRI考夫曼離子源歷經(jīng)3...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP220高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻.在離子束濺射工藝中,射頻離子源RFICP220配有離子光學(xué)元件,可以很好的控制離子束去濺射...