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伯東公司代理 KRI 考夫曼離子源自動(dòng)控制器
面議0簡(jiǎn)介：KRIIonSource應(yīng)用領(lǐng)域：無(wú)柵極等離子源技術(shù)----End-Hall離子/等離子源有柵極離子源技術(shù)----RFICP離子源
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
伯東公司代理考夫曼離子源 e-Mission Filament
面議0簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRI考夫曼離子源提供多個(gè)類型的低能量高密度的電子源,從簡(jiǎn)單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應(yīng)用在等離子和離子工藝中的陰極和陽(yáng)極中和器,通過(guò)技術(shù)完成電子的發(fā)射,測(cè)量和束流控制,廣泛...
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
伯東代理考夫曼離子源離子槍簡(jiǎn)介
面議0簡(jiǎn)介：伯東公司是美國(guó)考夫曼公司Kuafman&Robinson,Inc（KRI）中國(guó)總代理.KRI考夫曼公司是由離子源發(fā)明人Dr.Kaufman考夫曼博士于1978年在美國(guó)創(chuàng)立.KRI考夫曼離子源歷經(jīng)3...
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
射頻離子源 RFICP 220 伯東公司代理
面議0簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP220高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻.在離子束濺射工藝中,射頻離子源RFICP220配有離子光學(xué)元件,可以很好的控制離子束去濺射...
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
伯東公司供應(yīng)射頻離子源 RFICP 140
面議0簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP140是一款緊湊的有柵極離子源,非常適用于離子束濺射沉積,離子輔助沉積和離子束刻蝕.在離子束濺射工藝中，射頻離子源RFICP140配有離子光學(xué)元件,可...
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
霍爾離子源 eH 3000 伯東公司代理面議0簡(jiǎn)介：尺寸:直徑=9.7“高=6”放電電壓/電流:50-300V/20A操作氣體:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有機(jī)前體
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
射頻離子源 RFICP 100 伯東公司代理
面議0簡(jiǎn)介：在離子刻蝕工藝中,離子源與離子光學(xué)配合,蝕刻更均勻.標(biāo)準(zhǔn)配置下RFICP100離子能量范圍100至1200ev,離子電流可以達(dá)到400mA.
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
伯東公司供應(yīng)射頻離子源 RFICP 40
面議0簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP40:目前KRI射頻離子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效離子源.適用于集成在小型的真空腔體內(nèi).離子源RFICP40設(shè)計(jì)采用創(chuàng)新的柵極技術(shù)用于研發(fā)和...
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
伯東公司供應(yīng) KRI 霍爾離子源 eH 2000面議0簡(jiǎn)介：尺寸:直徑=5.7“高=5.5”放電電壓/電流:50-300V/10A或15A操作氣體:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有機(jī)前體
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià) -
KRI 霍爾離子源 eH 1000 伯東公司代理
面議0簡(jiǎn)介：尺寸:直徑=5.7“高=5.5”放電電壓/電流:50-300V/10A操作氣體:Ar,Xe,Kr,O2,N2,有機(jī)前體
伯東貿(mào)易（深圳）有限公司 產(chǎn)地：深圳市我要詢價(jià)