亚洲午夜精品在线一区,国产精品99精品久久久,久久嫩草精品久久久精品,国产福利刺激视频视频

簡介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。

簡介：LaserMBELaserMBE特點模塊化概念，LaserMBE可以輕松升級到傳輸模塊或其他模塊UHVPLD主腔室、利用Load-lock實現(xiàn)襯底和靶材的UHV傳輸的工藝自動化功能，可實現(xiàn)超晶格生...

簡介：用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生產型ALD;具備近100種膜層工藝。應用領域：芯片封裝、半導體High-k介電...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC100中型規(guī)格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中,考夫曼離子源KDC100采用雙陰極燈絲和自對準柵極,標準配置下離子能量范圍100至1200...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC160是目前考夫曼KDC系列zui大,離子能量zui強的柵極離子源,適用于已知的所有離子源應用,離子源KDC160高輸出設計,zui大電流超過1000m...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH200是霍爾離子源型eH系列中尺寸最小,低成本設計離子源.霍爾離子源eH200適用于小型真空腔內,例如研發(fā)分析,薄膜沉積和離子清洗.霍爾離子源eH200操作...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI線性離子源使用eH400做為模組,能應用于寬范圍的襯底,離子源長度高達1米,通過嚴格調整模組間的距離可以實現(xiàn)更佳的均勻性和離子流.由于模組是平行放置,大大簡化了氣體,功率...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI射頻離子源RFICP40:目前KRI射頻離子源RFICP系列尺寸最小,低成本高效離子源.適用于集成在小型的真空腔體內.離子源RFICP40設計采用創(chuàng)新的柵極技術用于研發(fā)和...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH3000適合大型真空系統(tǒng),與友廠大功率離子源對比,eH3000是目前市場上高效,提供更高離子束流的離子源.

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH1000,低成本設計提供高離子電流,特別適合中型真空系統(tǒng).通常應用于離子輔助鍍膜,預清洗和低能量離子蝕刻.