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簡介：鹵素燈/鎢絲燈負載柜產(chǎn)品型號：LSK-FZG-2依據(jù)標準GB16915.1-2003，GB2099.1-2008、UL1054、UL943關于鎢絲燈負載設計制作

簡介：特征1、自動連續(xù)偏壓技術和IFT燈絲監(jiān)控技術2、優(yōu)異的觀察能力3、多探頭成像系統(tǒng)4、強大的樣品適用性

簡介：IV——定制標準溶液專家公司簡介及資質(zhì)InorganicVentures公司30年來，一直專注于提供無機認證的標準物質(zhì)（定制），在范圍內(nèi)提供的高效、高質(zhì)量的服務和支持

簡介：RIE反應離子刻蝕機NRE-3500（A）全自動RIE反應離子刻蝕機概述：獨立式RIE反應離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載...

簡介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。

簡介：LaserMBELaserMBE特點模塊化概念，LaserMBE可以輕松升級到傳輸模塊或其他模塊UHVPLD主腔室、利用Load-lock實現(xiàn)襯底和靶材的UHV傳輸?shù)墓に囎詣踊δ?，可實現(xiàn)超晶格生...

簡介：用于沉積納米級薄膜、納米粉末包覆、長深孔樣品鍍膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生產(chǎn)型ALD;具備近100種膜層工藝。應用領域：芯片封裝、半導體High-k介電...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC100中型規(guī)格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產(chǎn)設備中,考夫曼離子源KDC100采用雙陰極燈絲和自對準柵極,標準配置下離子能量范圍100至1200...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI考夫曼離子源KDC160是目前考夫曼KDC系列zui大,離子能量zui強的柵極離子源,適用于已知的所有離子源應用,離子源KDC160高輸出設計,zui大電流超過1000m...

簡介：上海伯東代理美國進口KRI霍爾離子源eH200是霍爾離子源型eH系列中尺寸最小,低成本設計離子源.霍爾離子源eH200適用于小型真空腔內(nèi),例如研發(fā)分析,薄膜沉積和離子清洗.霍爾離子源eH200操作...