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簡介：快速退火爐嘉儀通RTP4吋快速退火爐控溫精度準升溫速度快半導體退火設備采用紅外輻射加熱技術，可實現大尺寸樣品（4英寸樣品）快速升溫和降溫，同時搭配高精度溫度控制系統(tǒng)，可達到比較好的溫場均勻性，對材...

簡介：

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簡介：真空磁場退火高溫爐水冷機組加熱系統(tǒng)適應范圍：需在高溫、高真空、強磁場環(huán)境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

簡介：MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進行快速升降溫，潔凈加熱。Mila-5000series多功能快速退火爐將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經濟型退火爐，可以在不同的氣氛下進行加...

簡介：AdvanceRiko-經濟型RTP快速退火爐RTP-6采用拋物線形的黃金反射面，可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統(tǒng)可進行快速的熱處理，適合熱處理工藝的研究與開發(fā)?？捎糜诎雽w工藝中硅化物的形成以及...

簡介：紅外金面反射爐應用于科研和生產當中，AdvanceRiko紅外金面快速退火爐RHL-Pseries具備加熱速度快，溫度范圍寬等特點。

簡介：Mila-50502英寸快速退火爐適用于對直徑50mm以內的樣品進行熱處理。之前推出的Mila-5000series，可處理的樣品的尺寸直徑為20mm，已不能滿足部分用戶的需求。

簡介：快速退火爐（RTP/RTA）是半導體材料和器件常用的一款工藝設備。大尺寸快速退火爐（12英寸）可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。