Advance Riko-經(jīng)濟型RTP快速退火爐 RTP-6采用拋物線形的黃金反射面，可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統(tǒng)可進行快速的熱處理，適合熱處理工藝的研究與開發(fā)?？捎糜诎雽w工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。

       Advance Riko-經(jīng)濟型RTP快速退火爐 RTP-6升溫速率可達80℃/s。
 

　　Advance Riko-經(jīng)濟型RTP快速退火爐 RTP-6采用拋物線形的黃金反射面，可均勻熱處理6英寸的圓晶。該系統(tǒng)可進行快速的熱處理，適合熱處理工藝的研究與開發(fā)。可用于半導體工藝中硅化物的形成以及半導體化合物的過程退火。
 

　　應用：
 

　　1、離子注入后的活化退火
 

　　2、沉積氧化膜的退火
 

　　3、歐姆電極合金化
 

　　4、PZT，SBT和其它鐵電薄膜的結晶退火
 

　　5、硅化物及自對準硅化物的生成
 

　　6、發(fā)光元件，半導體激光基板的熱處理
 

　　7、超淺結的生成
 

　　8、鐵電電容器沉積
 

　　9、柵氧化膜的生
 

　　特點：
 

　　l  快速熱處理
 

　　l  腔體采用水冷，可進行快速降溫
 

　　l  真空置換氣氛后，可采用流動氣氛進行熱處理
 

　　l  溫度程序設置和外部信號輸入可以通過腦輕松控制
 

　　l  加熱過程的溫度數(shù)據(jù)也可以顯示在電腦上
 

　　l  石英保護板(可選)可以安裝在腔室內(nèi)以防止污染
 

　　l  配備了各種安全措施
 

　　l  九個獨立的加熱區(qū)可實現(xiàn)不同尺寸樣品均勻的溫度控制
 

　　組成：
 

　　1、紅外金面反射爐
 

　　2、加熱腔
 

　　3、可編程溫控器
 

　　4、9個獨立的加熱區(qū)
 

　　5、跨度變換單元
 

　　6、氣體管路系統(tǒng)
 

　　7、熱氣排出系統(tǒng)
 

　　8、爐體框架，開關板
 

　　9、高溫計(可選)
 

　　10、水冷機(可選)
 

　　11、真空泵(可選)