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簡介：上海伯東代理的連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備可準(zhǔn)確控制其濺鍍制程條件,為客戶提供更優(yōu)質(zhì)的薄膜,廣泛應(yīng)用于納米研究技術(shù),材料研究,氧化物,氮化物和金屬材料的研究,太陽能電池和觸碰螢?zāi)坏刃袠I(yè).

簡介：上海伯東代理多層膜磁控濺鍍設(shè)備Multilayersputter擁有基板公自轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),搭配美國KRI離子源可實(shí)現(xiàn)多層膜結(jié)構(gòu)并可以一次批量生產(chǎn),廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,納米科技,太陽能電池,科研等行業(yè),氧化...

簡介：超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于10-8至10-12托,超高真空環(huán)境對于科學(xué)研究非常重要,因?qū)嶒?yàn)通常要求在整個(gè)過程中,表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)并可使用較低能量的電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)使用,而不會(huì)受到氣...

簡介：上海伯東代理的磁控共濺鍍腔提供了準(zhǔn)確控制多個(gè)磁控濺鍍的制程條件,加裝美國KRi離子源為客戶提供更好質(zhì)量的復(fù)合式薄膜.單片和多片式的loadingchamber,可節(jié)省其制程腔體的抽氣時(shí)間,進(jìn)而節(jié)省...

簡介：上海伯東代理剝離成形電子束設(shè)備可以準(zhǔn)確的控制蒸發(fā)速度,因此薄膜厚度和均勻度皆小于±3％,客制化的基板尺寸,zui大直徑可達(dá)12寸晶圓,腔體的極限真空度約為10-8Torr.

簡介：KT-Z1650CVD是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全。配備7寸觸摸屏人工界面，具有電流時(shí)間工藝儲(chǔ)存功能。配備有電壓電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及自動(dòng)電動(dòng)樣品擋板功能...

簡介：小型離子濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD，能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au/Pd）實(shí)驗(yàn)室用鄭科探KT-Z1650PVD小型磁控濺射儀的薄膜。在...

簡介：TQC自動(dòng)涂膜機(jī)針對涂料在測試圖表、板或薄片上的涂膜，提供一種重復(fù)性和再現(xiàn)性都非常好的可靠基本的涂膜方式，消除了人為因素引起的各種不穩(wěn)定性。速度、壓力和方向等的改變，都會(huì)導(dǎo)致涂膜結(jié)果的不規(guī)律性，另...

簡介：208HR高分辨率鍍膜儀（離子濺射儀）208HR高分辨離子濺射儀為場發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。場發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上極其薄、無細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷...

簡介：208C高真空鍍碳儀Cressington208C高真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜技術(shù)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，...