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208HR 高分辨率鍍膜儀(離子濺射儀)

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208HR 高分辨率鍍膜儀(離子濺射儀)208HR高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí),樣品需鍍上極其薄、無(wú)細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對(duì)比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對(duì)膜厚和濺射條件提供無(wú)可媲美的控制。 分類: 電鏡制樣設(shè)備, 鍍膜儀 標(biāo)簽: 離子濺射儀, 鍍膜儀, 高真空離子濺射儀 Brand:Ted Pella

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描述

208HR高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察時(shí),樣品需鍍上極其薄、無(wú)細(xì)晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對(duì)比度。為了將細(xì)晶的尺寸減小到最小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對(duì)膜厚和濺射條件提供無(wú)可媲美的控制。

208HR分子渦輪泵高真空系統(tǒng)提供寬范圍的操作壓力,可以對(duì)膜層的均勻性和一致性進(jìn)行精確控制,并減小充電效應(yīng)。高/低樣品室的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)使靶材和樣品之間的距離調(diào)節(jié)變得極為方便。

MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm,其作用是對(duì)所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制,它尤其適合場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)膜厚(0.5-3nm)的要求。

 

場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡鍍膜的靶材是:

  • Pt/Pd:非導(dǎo)電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
  • Cr:優(yōu)良的半導(dǎo)體樣品的鍍膜材料
  • Ir:優(yōu)良的真正無(wú)細(xì)晶的鍍膜材料

208HR系統(tǒng)為得到高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇,可配備標(biāo)準(zhǔn)的旋片泵或提供干凈真空的無(wú)油渦旋式真空泵,標(biāo)配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。

一、主要特性

· 可選擇多種鍍膜材料

· 精確的膜厚控制

· 樣品臺(tái)控制靈活:可對(duì)樣品臺(tái)進(jìn)行獨(dú)立的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng)、傾斜控制,保證形貌差異大的樣品也能得到的鍍膜效果。

· 多個(gè)樣品座:提供4個(gè)樣品座,每個(gè)樣品座直徑32mm,可裝載多達(dá)6個(gè)小樣品座。

· 樣品室?guī)缀慰勺儯?/strong> 樣品室?guī)缀斡糜谡{(diào)節(jié)鍍膜的速率(1.0nm/s ~ 0.002nm/s)

· 寬范圍的操作壓力:獨(dú)立的功率和壓力調(diào)節(jié),氬氣的壓力大小范圍為0.2 – 0.005 mbar。

· 緊湊、現(xiàn)代的桌上型設(shè)計(jì)

· 操作容易

二、技術(shù)參數(shù)

濺射系統(tǒng)
鍍膜頭低電壓平面磁控管

靶材更換快速

環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩

靶材調(diào)節(jié)遮擋

靶材Cr, Pt/Pd (標(biāo)配)
Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir , Ti(選配)
鍍膜控制微處理器控制

安全互鎖

電流控制與真空度無(wú)關(guān)

數(shù)字化可選電流(20,40,60 和 80mA)

樣品室大小直徑150mm
高度165 – 250mm
樣品臺(tái)非重復(fù)的旋轉(zhuǎn)、行星式轉(zhuǎn)動(dòng),并可手動(dòng)傾斜0-90°
轉(zhuǎn)動(dòng)速度可調(diào)
晶體頭
4個(gè)樣品臺(tái)
模擬計(jì)量真空 Atm – .001mb
電流 0-100mA
控制方法自動(dòng)氣體凈化和泄氣功能

自動(dòng)處理排序

帶有“暫停”功能的數(shù)字計(jì)時(shí)器

自動(dòng)放氣

膜厚控制MTM-20高分辨膜厚控制儀
真空系統(tǒng)
結(jié)構(gòu)分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合,

代替旋葉泵的無(wú)油渦旋式真空泵(選配)

抽真空速度0.1mb 下300 l/min
抽真空時(shí)間1 mbar 限真空1 x 10-5mbar
桌上型系統(tǒng)旋葉泵置于抗震臺(tái)上,全金屬真空耦合系統(tǒng)
膜厚測(cè)控儀
MTM-20基于微處理器,4位數(shù)字顯示,復(fù)位按鈕, 6MHz晶體(具有壽命檢查功能),5次/s的更新速率
膜厚范圍0.0 – 999.9nm
分辨率優(yōu)于 0.1nm
密度范圍0.50 – 30.00gm/cm3
修正系數(shù)范圍0.25 – 8.00
鍍膜終止范圍膜厚0 – 999.9nm
系統(tǒng)要求
電氣100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz
功率550VA()
氬氣最小純度99.995%
調(diào)節(jié)壓力 5 – 6 psi (0.4 bar)
6.0mm ID連接軟管



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