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DE300 SPUTTER 北京高校研究所DE300 Sputter 磁控濺射系統(tǒng)
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DE350 SIO2 SPUTTER 北京高校物理電子實(shí)驗(yàn)室DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)
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DE600 SPUTTER 北京高校物理實(shí)驗(yàn)室DE600 Sputter 磁控濺射系統(tǒng)
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DE400 E-BEAM EVAPORATOR 北京高校光學(xué)實(shí)驗(yàn)室DE400 電子束蒸發(fā)真空鍍膜儀
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DE400D E-BEAM EVAPORATOR 北京高校實(shí)驗(yàn)室DE400D 電子束蒸發(fā)真空鍍膜儀
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DE600 E-BEAM EVAPORATOR 北京高校光學(xué)物理實(shí)驗(yàn)室DE600 電子束蒸發(fā)真空鍍膜儀
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DE300 THERMAL 北京高校半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室DE300 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
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DE400D THERMAL 北京高校半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室DE400D 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
面議750簡(jiǎn)介：DE400D熱阻蒸發(fā)儀可配置一個(gè)多組蒸發(fā)源，基片架裝于腔體頂部旋轉(zhuǎn)或腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動(dòng)的軸上基片可以改變鍍膜角度
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DE200 PLD 北京高校光學(xué)實(shí)驗(yàn)室DE200脈沖激光薄膜沉積系統(tǒng)
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DE500 SPUTTER 北京提供實(shí)驗(yàn)室DE500 Sputter 磁控濺射系統(tǒng)
面議750簡(jiǎn)介：DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個(gè)濺射源和一個(gè)樣品臺(tái)可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統(tǒng)極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別的是可以維...
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