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DE350 SIO2 SPUTTER 北京高校物理電子實驗室DE350 Sputter 二氧化硅濺射系統(tǒng)
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DE600 SPUTTER 北京高校物理實驗室DE600 Sputter 磁控濺射系統(tǒng)
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DE400 E-BEAM EVAPORATOR 北京高校光學(xué)實驗室DE400 電子束蒸發(fā)真空鍍膜儀
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DE600 E-BEAM EVAPORATOR 北京高校光學(xué)物理實驗室DE600 電子束蒸發(fā)真空鍍膜儀
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DE300 THERMAL 北京高校半導(dǎo)體實驗室DE300 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
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DE400D THERMAL 北京高校半導(dǎo)體實驗室DE400D 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
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DE200 PLD 北京高校光學(xué)實驗室DE200脈沖激光薄膜沉積系統(tǒng)
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DE500 SPUTTER 北京提供實驗室DE500 Sputter 磁控濺射系統(tǒng)
面議750簡介：DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個濺射源和一個樣品臺可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統(tǒng)極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別的是可以維...
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