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簡介：離子束刻蝕系統儀器應用：離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性反應刻蝕生物醫(yī)藥傳感器

簡介：RIE是干蝕刻的一種，這種蝕刻的原理是，當在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓（RF，radiofrequency）時會產生數百微米厚的離子層（ionsheath），在其中放入試樣，離子...

簡介：臺式無掩膜激光直寫光刻機打破了市面上傳統激光直寫設備高昂價格壁壘，是現階段市面上優(yōu)性價比的一款*的激光直寫光刻系統

簡介：光刻機/紫外曝光機（MaskAligner）又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，光刻機，紫外曝光機等；此型號光刻機是所有進口設備中性能價格比高的型號，達到歐美品牌的對準精度，CCD顯示屏對準...

簡介：實驗級R2P納米壓印系統又名桌面式微納米結構復制機，可以說是“Themostcost-effectiveholographicprintingtechnologyavailabletoday現階段...

簡介：Nanonex納米壓印系統NX-250是基于氣墊軟壓技術（ACP），超過12年、15代產品開發(fā)經驗的自動化壓印操作，Nanonex壓印系統經過大量實時實地驗證，質量可靠，性能*穩(wěn)定。

簡介：ATMKristall680全自動電解拋光蝕刻機是一款通過觸屏界面直觀操作的全自動電解拋光蝕刻。具有獨立的拋光蝕刻單元和控制單元，并可以在通風櫥中使用。