Nanonex納米壓印系統(tǒng)NX-250是基于氣墊軟壓技術(shù)（ACP），超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動(dòng)化壓印操作，Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定。

產(chǎn)品介紹

Nanonex納米壓印系統(tǒng)NX-2500

Nanonex納米壓印系統(tǒng)NX-2500的產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、 熱塑化
2、 紫外固化
3、 熱壓與紫外壓印同時(shí)進(jìn)行 
4、 熱固化
5、氣墊軟壓技術(shù)(ACP)
6、Nanonex*技術(shù)
7、 *的整片基板納米壓印 均勻性
8、高通量 
9、低于10nm分辨率
10、亞1微米對準(zhǔn)精度 
11、快速工藝循環(huán)時(shí)間（小于60秒） 靈活性
12、4″, 6″, or 8″壓印面積可選擇各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可壓印 
13、方便用戶操作
14、基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動(dòng)化壓印操作，Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定
15、全自動(dòng)納米壓印

規(guī)格參數(shù)：

1、熱塑壓印模塊
      溫度范圍0～250oC
      加熱速度>300oC/分鐘 
      制冷速度>150oC/分鐘 
      壓力范圍0 ～ 3.8 MPa（550 psi）
2、紫外固化模塊
      200W窄帶紫外光源
      365納米或395納米波長可選 
      全自動(dòng)化控制
3、對準(zhǔn)模塊
     <1μm 3σ對準(zhǔn)準(zhǔn)確率
     X, Y, Z, Theta平臺(tái)
    分場光學(xué)和CCD相機(jī)
4、模版裝載功能
     4″/5″/6″模版可用于標(biāo)配納米壓印
5、系統(tǒng)
     8”模板可升級(jí)
6、基板裝載
     標(biāo)配納米壓印系統(tǒng)可裝載4″基板
     6″和8″基板可選
     各種尺寸及不規(guī)則形狀模板及基
7、板均可壓印
     *保護(hù)ACP技術(shù)可限
8、度保護(hù)基板和模板，特別對于象磷化銦（InP）等極易碎模板和 基板給予限度保護(hù)。