1200℃雙管滑動(dòng)式單、多溫區(qū)CVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為在金屬箔上生長(zhǎng)薄膜而設(shè)計(jì)，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過(guò)滑動(dòng)爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
1200℃滑動(dòng)式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)...
1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
產(chǎn)品用途：此款CVD生長(zhǎng)系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn)。
1200℃集成型自動(dòng)小型PECVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...
1200度小型PECVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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