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【儀器網(wǎng) 產(chǎn)品文庫】橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學測量儀器。
橢偏儀發(fā)展展望
橢偏測量具有非接觸性、非破壞性、測量精度高和適于測量較薄膜層的特點,成為了半導體工業(yè)常用的薄膜測量工具。由于半導體制造業(yè)在器件關鍵尺寸上的測量要求越來越,薄膜常用材料日益多樣化,薄膜的結(jié)構(gòu)越來越復雜,需要進一步改進橢偏儀。目前橢偏儀的主要發(fā)展趨勢包括:
1、尋找較高強度的紅外光源,拓寬橢偏儀的光譜范圍,以準確確定異質(zhì)結(jié)構(gòu)的多層膜結(jié)構(gòu);
2、建立包含成像橢偏儀的校準因素的系統(tǒng)模型,以減小成像橢偏儀的測量誤差;
3、對半導體工業(yè)常用薄膜材料建立準確的物理模型,以減小系統(tǒng)的計算誤差;
4、引入能夠同步進行數(shù)據(jù)獲取和數(shù)據(jù)處理的控制系統(tǒng),并利用優(yōu)化算法,較快得出薄膜系統(tǒng)待求參量,以提高橢偏儀的測量速度,增強橢偏儀的在線檢測和控制功能。
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