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557 低真空鍍膜儀 Leica EM ACE200

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Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,或者同時(shí)具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動(dòng)電腦控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等全過(guò)程,一鍵操作。采用當(dāng)下流行的觸摸屏控制,簡(jiǎn)單方便。

 

主要技術(shù)參數(shù)

• 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)

• 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可控制碳膜厚度

• 可選石英膜厚檢測(cè)器,控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm

• 全自動(dòng)程序控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等過(guò)程

• 觸摸屏控制,簡(jiǎn)單方便

• 真空度≤7×10 -3 mbar

• 濺射電流:0-150mA可調(diào)

• 方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì),樣品倉(cāng)尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)

• 工作距離調(diào)節(jié)范圍:30mm-100mm


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