亚洲午夜精品在线一区,国产精品99精品久久久,久久嫩草精品久久久精品,国产福利刺激视频视频

當(dāng)前位置：儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 儀器專用配件>質(zhì)譜配件>離子源 > 上海伯東代理 KRi 射頻離子源 RFICP 220

上海伯東代理 KRi 射頻離子源 RFICP 220

參考價(jià)	￥ 1212000
訂貨量	≥1 件

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌
型號(hào)
所在地 上海市
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時(shí)間 2023/1/4 15:22:46
訪問次數(shù) 301

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品點(diǎn)擊查看聯(lián)系電話

索取相關(guān)資料

促銷詳情

促銷時(shí)間：

特價(jià)說明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

特價(jià)促銷

模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

上海伯東代理美國進(jìn)口 KRi 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性.

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

KRi 射頻離子源 RFICP 220
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRi 射頻離子源 RFICP 220 高能量柵極離子源, 適用于離子濺鍍, 離子沉積和離子蝕刻. 在離子束濺射工藝中, 射頻離子源 RFICP 220 配有離子光學(xué)元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實(shí)現(xiàn)更佳的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 離子光學(xué)元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務(wù). 標(biāo)準(zhǔn)配置下射頻離子源 RFICP 220 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 1000 mA.
KRi 射頻離子源 RFICP220

KRI 射頻離子源 RFICP 220 技術(shù)參數(shù):

陽極	電感耦合等離子體 2kW & 2 MHz 射頻自動(dòng)匹配
zui大陽極功率	>1kW
zui大離子束流	> 1000mA
電壓范圍	100-1200V
離子束動(dòng)能	100-1200eV
氣體	Ar, O2, N2, 其他
流量	5-50 sccm
壓力	< 0.5mTorr
離子光學(xué), 自對(duì)準(zhǔn)	OptiBeamTM
離子束柵極	22cm Φ
柵極材質(zhì)	鉬
離子束流形狀	平行,聚焦,散射
中和器	LFN 2000, MHC 1000
高度	30 cm
直徑	41 cm
鎖緊安裝法蘭	10”CF

KRI 射頻離子源 RFICP 220 基本尺寸
射頻離子源 RFICP220
射頻離子源中和器

KRI 射頻離子源 RFICP 220 應(yīng)用領(lǐng)域：
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜 (光學(xué)鍍膜) IBAD,
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

射頻離子源 RFICP 220 集成于半導(dǎo)體設(shè)備, 實(shí)現(xiàn) 8寸芯片蝕刻
射頻離子源 RFICP220

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)寬束離子源, 根據(jù)設(shè)計(jì)原理分為考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專li. KRi 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 和離子束拋光工藝 IBF 等領(lǐng)域, 上海伯東是美國 KRi 考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 射頻離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生