美國(guó)NIST SRM 2000高分辨率X射線衍射標(biāo)準(zhǔn)品為高分辨率 X 射線衍射 (HRXRD) 社區(qū)提供了國(guó)際單位制 (SI) [1] 可追溯的 Si (220) 透射間距、表面到晶面晶片我們的參考波長(zhǎng)在反射中的誤切和表面到硅 (004) 布拉格角。 SRM 2000 的一個(gè)單元由 25 mm × 25 mm × 0.725 mm 雙拋光 (100) 取向的單晶硅樣品組成，具有標(biāo)稱 50 nm Si0.85Ge0.15 外延層和 25 nm 硅帽。
儲(chǔ)存和搬運(yùn)：
外延層可能損壞或晶片機(jī)械拉力，因此應(yīng)避免與SRM前表面接觸。若要清除表面污染，請(qǐng)使用過(guò)濾后的氮?dú)狻?/p>
峰型：測(cè)量到的衍射峰明顯不對(duì)稱。輔助測(cè)量表明，這種不對(duì)稱可能不*是由于儀器效應(yīng)，而是由于SRM 2000原料油的特性。因此，采用分離式Pearson Vll剖面來(lái)擬合和估計(jì)峰值位置，并被推薦用于確定峰值位置以進(jìn)行校準(zhǔn)。由于不對(duì)稱對(duì)輪廓位置確定的不同影響，使用另一個(gè)剖面函數(shù)可能導(dǎo)致不系統(tǒng)的偏差。
使用
建議使用在Si(220)傳輸中測(cè)量的d間距：通過(guò)直接使用經(jīng)認(rèn)證的d間距校準(zhǔn)，dsRM需要一種能夠測(cè)量傳輸幾何形狀的儀器。如果這是可能的，人們可以校準(zhǔn)儀器的單色儀的波長(zhǎng)，齊姆特，或角度測(cè)量附近的Si(220)反射(透射幾何)，Δθinst。下面的過(guò)程為此校準(zhǔn)提供了一種方法(見(jiàn)表3中的掃描范圍)。個(gè)別儀器制造商可能會(huì)有其他的建議程序。
美國(guó)NIST SRM 2000高分辨率X射線衍射標(biāo)準(zhǔn)品這些認(rèn)證值可用于校準(zhǔn) HRXRD 儀器。
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