氮化硅支持膜氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅膜，主要用于納米技術和分子生物研究，它的優(yōu)點是化學和機械性能穩(wěn)定耐腐蝕，可以承受高達1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對顆?；蚣毎M行各種納米技術實驗。應用領域：FIB樣品支撐，細胞生物學（附著的細胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長，然后進行分析）、分析膠體，氣溶膠，納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究（直接沉積在氮化硅支持膜上）、材料科學、半導體器件的納米結構的性質、半導體：薄膜表征、催化劑研發(fā)。 分類： 支持膜

描述

氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅膜，主要用于納米技術和分子生物研究，它的優(yōu)點是化學和機械性能穩(wěn)定耐腐蝕，可以承受高達1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對顆粒或細胞進行各種納米技術實驗。應用領域：FIB樣品支撐，細胞生物學（附著的細胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長，然后進行分析）、分析膠體，氣溶膠，納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究（直接沉積在氮化硅支持膜上）、材料科學、半導體器件的納米結構的性質、半導體：薄膜表征、催化劑研發(fā)。

膜厚度：彈性，超低應力8、15、35或50nm，可產生最小吸收，從而實現清晰的成像；堅固，低應力的100nm和200nm，可在多個平臺上更好地處理和使用；窗口尺寸： 0.25 x 0.25mm，0.5 x 0.5mm，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm，0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3陣列的9個0.1 x 0.1mm窗口或2個0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域，例如，可以實現層析成像應用所需的更大的傾斜角度。具有多個窗口的版本允許將多個樣本安裝在單獨的窗口上。表面粗糙度： RMS（Rq）為0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）為0.45 +/- 0.02nm。貨號21510-10到21579-10。