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簡(jiǎn)介：MP-2B金相試樣磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，可以兩人同時(shí)操作使用。本機(jī)配備ABS外殼和不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)件，在外觀上更加美觀大方，并提高了防腐、防銹性能且易清潔。

簡(jiǎn)介：MP-2金相試樣磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，左盤用于研磨，右盤用于拋光，可以兩人同時(shí)操作使用。本機(jī)具有轉(zhuǎn)動(dòng)平穩(wěn)、安全可靠、結(jié)構(gòu)緊湊和噪音低等特點(diǎn)，且?guī)в兴鋮s裝置，可以在研磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻。

簡(jiǎn)介：MoPao?2DE金相試樣磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，具備單盤獨(dú)立控制及盤的旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇和磨拋盤可快速更換的功能。本機(jī)采用了微處理器控制系統(tǒng)，可使磨、拋盤均能獲得50-600轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速且相互...

簡(jiǎn)介：P-2T金相試樣拋光機(jī)是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備，它具有傳動(dòng)平穩(wěn)，噪音小，操作、維修方便等優(yōu)點(diǎn)，能適合更多種材料的拋光要求。該機(jī)適用于廠礦企業(yè)、大專院校、科研單位的金相試驗(yàn)室。

簡(jiǎn)介：P-2金相試樣拋光機(jī)（臺(tái)式立式兩用）是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備，它具有傳動(dòng)平穩(wěn)，噪音小，操作、維修方便等優(yōu)點(diǎn)，能適合多種材料的拋光要求。該機(jī)適用于廠礦企業(yè)、大專院校、科研單位的金相試驗(yàn)室。

簡(jiǎn)介：MP-2金相試樣磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。是用戶用來(lái)制作金相試樣*的設(shè)備。本機(jī)帶有冷卻裝置，可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。

簡(jiǎn)介：YMP-2型金相試樣磨拋機(jī)是采用單片機(jī)的研磨拋光設(shè)備，雙盤獨(dú)立控制，機(jī)身采用ABS材料一體成形，外形新穎美觀，防腐蝕、經(jīng)久耐用；牢固的大型支撐底盤設(shè)計(jì)確保了精密的回轉(zhuǎn)平衡度；磨盤無(wú)級(jí)調(diào)速或四檔調(diào)速...

簡(jiǎn)介：MP—2B金相試樣磨拋機(jī)為雙盤式機(jī)，可兩人同時(shí)操作使用，適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行預(yù)磨、研磨和拋光操作。本機(jī)通過(guò)變頻器調(diào)速，可直接獲得50~1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具有更加廣泛的應(yīng)用性。

簡(jiǎn)介：MoPao2DE金相試樣磨拋機(jī)為雙盤臺(tái)式機(jī)，具備單盤獨(dú)立控制及盤的旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇和磨拋盤可快速更換的功能。本機(jī)采用了先進(jìn)的微處理器控制系統(tǒng)，可使磨、拋盤均能獲得50-600轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速且...

簡(jiǎn)介：1.利用負(fù)壓將圓形砂紙或砂布吸附在磨盤上,啟動(dòng)機(jī)器開關(guān),便可快速制樣.2.具有除塵裝置,磨樣的同時(shí)將砂粒及灰塵吸入封閉的水箱內(nèi),避免污染環(huán)境.