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- +制樣/消解設(shè)備
- +分離/萃取設(shè)備
- +純化設(shè)備
- +混合/分散設(shè)備
- +恒溫/加熱/干燥設(shè)備
- +加熱設(shè)備
- +恒溫設(shè)備
- +粉碎設(shè)備
- +合成/反應(yīng)設(shè)備
- +制冷設(shè)備
- +泵
- +液體處理設(shè)備
- +氣體發(fā)生器/氣體處理
- +實驗室家具
- +其它實驗室常用設(shè)備
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清潔度檢測清潔柜CIA-PU
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清潔度檢測清洗柜CIA-UM
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清潔度清潔柜CIA-U
面議0簡介：產(chǎn)品參數(shù)產(chǎn)品編號:清潔度清潔柜CIA-U所屬品牌:BAHENS產(chǎn)品型號:BH-CIA-U額定功率：按實際方案提供所屬類別:清潔度清洗設(shè)備所屬用途:VDA19應(yīng)用領(lǐng)域:產(chǎn)品特性:清潔度清潔柜CIA-...
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清潔度簡易清洗設(shè)備CIA-BX01
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清潔度清潔柜CIA-S
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LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
面議0簡介：NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到化的清洗效果，兆聲能...
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NPC-4000 (M) 等離子清洗機
面議0簡介：PlasmaCleaner等離子清洗機NPC-4000（M）等離子清洗機概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表...
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美國 紫外臭氧清洗機UVO系列 T10x10/OES
面議0簡介：紫外臭氧清洗工作原理：清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機污染物可以和等離子氧...
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Harrick等離子清洗機PDC-002
面議0簡介：BenchtopPlasmaCleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無愧的主導(dǎo)者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離...
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Harrick基本型等離子清洗機PDC-32G-2
面議0簡介：BenchtopPlasmaCleaner小型等離子清洗系統(tǒng)PDC32G和PDC002HPC系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無愧的者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清...
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