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一、200g超高溫小型真空熔煉爐 電弧爐 設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、200g超高溫小型真空熔煉爐 電弧爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)： KDH-1200

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：VRD-24直聯(lián)泵、JTFB-600分子泵、一臺(tái)高真空插板閥，兩臺(tái)氣動(dòng)擋板閥和旁路閥及管道組成。

4、冷態(tài)極限真空度 ≤6.7x10E-4Pa

5、熔煉電流：額定電流1200A

6、腔室尺寸：¢400*410

7、電源功率：80KW

8、熔煉坩堝 設(shè)計(jì)有五個(gè)工位。一個(gè)半球形帶吸鑄功能的工位，四個(gè)熔煉除氣工位。五工位均勻規(guī)則排列，工位容重（樣品重量）150-200克。其中1~3個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。

9、工作氣體：Ar氣；

10、翻料方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件

11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

12、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

13、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

200g超高溫小型真空熔煉爐 電弧爐