實(shí)驗(yàn)電爐高溫耐蝕 哈氏合金反應(yīng)釜 參考價(jià)：面議
哈氏合金反應(yīng)釜 產(chǎn)品參數(shù)正在更新中
實(shí)驗(yàn)電爐高溫耐蝕 鎳基合金反應(yīng)釜 參考價(jià)：面議
鎳基合金反應(yīng)釜產(chǎn)品參數(shù)正在更新中
精密型實(shí)驗(yàn)室用水蒸氣發(fā)生器 參考價(jià)：面議
精密型實(shí)驗(yàn)室用水蒸氣發(fā)生器是我司研發(fā)改進(jìn)的新款產(chǎn)品，可實(shí)現(xiàn)每分鐘0.5ml至100ml流量的精確控制，保證了進(jìn)氣的均勻性和連續(xù)性，同時(shí)不會有冷凝的產(chǎn)生。
實(shí)驗(yàn)電爐 旋轉(zhuǎn)式高溫熔鹽粘度儀 參考價(jià)：面議
旋轉(zhuǎn)式高溫熔鹽粘度儀產(chǎn)品參數(shù)正在更新中
實(shí)驗(yàn)電爐高溫水解裝置 參考價(jià)：面議
定制高溫水解裝置產(chǎn)品參數(shù)正在更新中
循環(huán)流化床反應(yīng)爐 參考價(jià)：面議
循環(huán)流化床反應(yīng)爐采用智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；氣體從下而上穿過固體顆粒隨意填充狀態(tài)的料層，當(dāng)氣流速度達(dá)到或超過顆粒的臨界流化速度時(shí)，料層中顆粒...
1400℃攪拌提拉爐 參考價(jià)：面議
1400℃攪拌提拉爐采用智能化觸摸屏控制，提拉速度可精確調(diào)整控制，精度可達(dá)0.01mm/sec；爐體為上開門式結(jié)構(gòu)，爐體上蓋部分采用*的手提式保溫蓋，方便觀察爐...
800℃空氣循環(huán)箱式爐 參考價(jià)：面議
800℃空氣循環(huán)箱式爐SHXL-800,內(nèi)置特種耐高溫不銹鋼導(dǎo)流板，可優(yōu)化空氣循環(huán)。適于退火、固化、固溶退火、人工老化、預(yù)熱或軟化退火等工藝。
1700℃高低溫沖擊試驗(yàn)爐 參考價(jià)：面議
1700℃高低溫沖擊試驗(yàn)爐是用于試驗(yàn)件從1600℃到-60℃的快速轉(zhuǎn)換試驗(yàn)。高低溫區(qū)采用絲桿自動(dòng)控制，整個(gè)轉(zhuǎn)換過程在較短時(shí)間內(nèi)完成。設(shè)備區(qū)分為高溫區(qū)、低溫區(qū)、過...
紅外加熱快速升溫爐 參考價(jià)：面議
紅外加熱快速升溫爐由我公司自主研發(fā)的一款新型產(chǎn)品，該主品采用進(jìn)口紅外線加熱管加熱，歐陸nanodac彩色液晶記錄儀溫度控制，控溫精度高，響應(yīng)時(shí)間快；立式結(jié)構(gòu)，爐...
快速退火爐 參考價(jià)：面議
快速退火爐，采用紅外燈管加熱，高精度運(yùn)動(dòng)平臺控制爐管的升降，可獲得zui快的升降溫速率；真空級法蘭密封，結(jié)合我司真空、混氣系統(tǒng)，可以抽真空通氣氛；爐管垂直方向工...
RTP快速退火爐 參考價(jià)：面議
RTP快速退火爐由我公司自主研發(fā)的功能強(qiáng)大的加熱設(shè)備。該產(chǎn)品采用進(jìn)口紅外線加熱管加熱，造型新穎結(jié)構(gòu)合理，爐體和爐管可以自由滑動(dòng)，可實(shí)現(xiàn)快速升降溫。爐管內(nèi)尺寸13...
1200℃氫氣管式爐 參考價(jià)：面議
1200℃氫氣管式爐是專門針對于材料在氫氣環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)爐。氫氣進(jìn)口采用電磁閥與針閥做雙重保護(hù)，配備氫氣探測器監(jiān)測實(shí)驗(yàn)環(huán)境的安全性，如實(shí)驗(yàn)環(huán)境氫氣濃度達(dá)到探測設(shè)...
石墨烯生長爐 參考價(jià)：面議
石墨烯生長爐由滑動(dòng)開啟式真空管式爐，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。通過滑動(dòng)爐體來實(shí)現(xiàn)快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度；同時(shí)通過三路高精度質(zhì)量...
氣簾密封式連續(xù)走絲沉積爐（碳纖維制備爐） 參考價(jià)：面議
氣簾密封式連續(xù)走絲沉積爐（碳纖維制備爐）產(chǎn)品參數(shù)正在更新中
實(shí)驗(yàn)電爐PECVD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
實(shí)驗(yàn)電爐PECVD系統(tǒng)主要用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴(kuò)展等離子清洗刻蝕使用。
PECVD開啟式管式爐系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PECVD開啟式管式爐系統(tǒng)在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其...
CVI-1700系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
CVI-1700系統(tǒng)由SGL-1700L真空管式爐，HQZ-Ⅳ混氣系統(tǒng)，真空壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，尾氣冷凝收集處理系統(tǒng)等組成。真空泵采進(jìn)口抗腐蝕隔膜真空泵，真空度可達(dá)到...
CVI-1200系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
CVI-1200系統(tǒng)由高溫管式爐，真空壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，過壓保護(hù)及冷凝等部分組成，可實(shí)現(xiàn)真空達(dá)0.1mbar混合氣體化學(xué)氣相沉積和...
CVD-1700浮子混氣系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
CVD-1700浮子混氣系統(tǒng)由SGL-1700真空管式爐，HQF-Ⅲ浮子混氣系統(tǒng)，內(nèi)置測溫系統(tǒng)及真空系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1700℃；真空泵采用雙極旋片...
CVD-1200系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
CVD-1200系統(tǒng)由滑動(dòng)式開啟式真空管式爐，混氣系統(tǒng)，真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1200℃，通過滑動(dòng)爐體來實(shí)現(xiàn)快速的升降溫；配置不同的真空系統(tǒng)來...
真空氣氛爐 參考價(jià)：面議
真空氣氛爐是我公司研發(fā)的功能強(qiáng)大的真空氣氛爐，集成了加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、溫度及真空監(jiān)測系統(tǒng)等，7寸觸摸屏智能化系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)一鍵操作智能化控制。主要...
1100℃高真空氣氛爐 參考價(jià)：面議
1100℃高真空氣氛爐以摻鉬電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制,控溫精度高；內(nèi)膽采用耐溫、耐壓合金材料；爐門配有循環(huán)水冷，保證爐門與...
1000℃真空氣氛攪拌爐 參考價(jià)：面議
1000℃真空氣氛攪拌爐是我所研發(fā)改進(jìn)的新款產(chǎn)品，可在高真空或在氣氛環(huán)境下對物料進(jìn)行攪拌，滿足客戶的實(shí)驗(yàn)要求；本款產(chǎn)品集成了升降攪拌系統(tǒng)，磁力密封系統(tǒng)，溫控系統(tǒng)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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