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樣品臺

樣品臺可選直接冷卻 / 間接冷卻, 0-90度旋轉(zhuǎn)

離子源

20cm 考夫曼離子源

均勻性

±5% for 8”Ф

硅片蝕刻率

20 nm/min

溫度

<100

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

Ar 的壓縮比

> 1 · 1011

Ar 的抽速

665 l/s

Ar 的最終轉(zhuǎn)速時的氣體流量

3.5 hPa l/s | 2.62 Torr l/s | 3.5 mbar l/s

H2 的壓縮比

4 · 105

H2 的抽速

555 l/s

H2 的最終轉(zhuǎn)速時的氣體流量

> 14 hPa l/s | > 10.5 Torr l/s | > 14 mbar l/s

He 的壓縮比

3 · 107

He 的抽速

655 l/s

He 的最終轉(zhuǎn)速時的氣體流量

10 hPa l/s | 7.5 Torr l/s | 10 mbar l/s

I/O 接口

RS-485, 遠程, Profibus

N2 的壓縮比

> 1 · 1011

N2 的抽速

685 l/s

N2 的zui大預真空

11 百帕

N2 的最終轉(zhuǎn)速時的氣體流量

6.5 hPa l/s | 4.88 Torr l/s | 6.5 mbar l/s

不帶氣鎮(zhèn)的最終壓力

1 · 10-7 百帕

允許冷卻水的溫度

15 – 35 °C 攝氏度

冷卻水消耗最小值

100 l/h

冷卻水耗量

100 l/h

冷卻類型，可選項

空氣

冷卻類型，標準

水

聲壓水平

≤50 dB(A) 分貝 (A)

安裝方向

任何

排氣連接

G 1/8"

接口，擴展

Profibus

方位

混合動力

zui大允許磁場

6 mT

根據(jù) PNEUROP 的最終壓力

< 1 · 10-7 百帕

電子驅(qū)動單元

帶有 TC 400

電流zui大值

8,75 A

耗電量 max.

420 瓦

轉(zhuǎn)速 ?± 2 %

49,200 rpm | 49,200 min-1

轉(zhuǎn)速可變化

60 – 100 

運行時間

2 分

連接法蘭（入口）

DN 160 ISO-F

連接法蘭（出口）

DN 25 ISO-KF/G ?"

重量

12.1 千克

防護等級

IP54