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過濾介質(zhì)測試裝置 PALAS MFP Nano plus

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MFPNanoplus符合DINEN1822-3和ISO29463-3標準的U-SMPS過濾介質(zhì)測試裝置

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MFP Nano plus


符合DIN EN 1822-3ISO 29463-3標準的U-SMPS過濾介質(zhì)測試裝置,用于確定MPPS范圍

? 從10 nm開始的粒徑測量
? 符合DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準而且在范圍內(nèi)可比較的測量結(jié)果
? 簡單使用不同的測試氣溶膠,例如NaCl / KCl或DEHS(其他可根據(jù)要求提供)
? 易于移動的稀釋級聯(lián),系數(shù)分別為10、100、1,000和10,000,用于鹽或DEHS測量
? 方便地測量餾分分離效率并確定MPPS范圍
? 測試方法的高重復性
? 靈活的過濾器測試軟件FTControl
? 易于工作,即使未經(jīng)培訓的人員也可以快速使用設備
? 客戶可以自主進行清潔
? 設置時間短,吞吐時間快
? 移動設置,易于在腳輪上移動
? 在交付前驗收測試期間以及交付時驗證單個組件和整個系統(tǒng)的功能
? 運行可靠
? 低維護
? 設備將減少您的運營成本

在實際的開發(fā)和質(zhì)量控制應用中,Palas®的MFP過濾器測試臺已經(jīng)在各地經(jīng)過多次驗證。

MFP Nanoplus專門設計用于根據(jù)DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準測定HEPA和ULPA過濾介質(zhì)的分離效率而計。

U-SMPS形式、現(xiàn)代且功能強大的na米顆粒測量設備可將用于5 nm到1 µm范圍粒度測量和量化分析。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000,可以用DEHS或鹽(NaCl / KCl)生產(chǎn)與MMPS范圍相匹配的準確氣溶膠分布。

由于采用可移動稀釋液級聯(lián),因此可以在短的時間內(nèi)將測試設備從使用鹽霧劑轉(zhuǎn)換為DEHS霧劑,而無需清洗

測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調(diào)整程序相結(jié)合,共同提供高度可靠的測量結(jié)果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質(zhì)和小微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)??梢栽诤芏痰臅r間內(nèi)確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷,既可靠又具有成本效益。

我們的質(zhì)量細節(jié)

1.使用UGF 2000產(chǎn)生多種氣溶膠,例如使用KCl/NaCl或DEHS。集成的硅膠干燥長管。通過質(zhì)量流量控制器單獨調(diào)節(jié)產(chǎn)生的氣霧體積流量。

2.氣溶膠中和:Kr 85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電(可選):可調(diào)節(jié)離子流以適應不同質(zhì)量流量??烧{(diào)混合空氣,流入速度為1.5-40厘米/秒。通過質(zhì)量流量控制器實現(xiàn)監(jiān)視和控制。

3.可移動的氣動過濾器支架,用于快速拆卸和裝載測試裝置。

4.可移動的稀釋液級聯(lián):稀釋液級聯(lián)可以按規(guī)定的10、100、1,000和10,000因子對所施加的測試氣霧劑進行規(guī)定的稀釋。由于它們是可移動的,因此可以在很短時間內(nèi)將測試設備從使用鹽霧劑轉(zhuǎn)換為DEHS霧劑。無需長時間或復雜地清潔系統(tǒng)。

5.用于na米顆粒測量的U-SMPS

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數(shù)據(jù)。

將氣溶膠分布調(diào)整到MPPS范圍

通過適當調(diào)整溶液濃度,可以將生成的粒度分布與MFP Nano plus中的相關(guān)MPPS范圍匹配。

圖1:使用DEHS調(diào)整所需MPPS范圍的粒徑

圖2:比較140 nm粒徑MPPS范圍內(nèi)的餾分分離效率

? 清晰展示整個測量范圍內(nèi)過濾介質(zhì)的分離效率
? 準確測定MPPS范圍
? zui高的測量重現(xiàn)性和可重復性突出顯示分離效率的微小差異
? 優(yōu)化的應用程序?qū)⒚看畏蛛x效率測量的測量時間縮短到6分鐘左右
? 分離效率曲線的簡單比較,也可以計算平均值

自動化

MFP Nano +集成有質(zhì)量流量控制器,可用于控制體積流量;可以通過FTControl過濾器測試軟件自動監(jiān)視和控制這些流量。在過濾器測試期間,還會自動記錄傳感器數(shù)據(jù),例如過濾器流量和壓差。在沒有稀釋系數(shù)與分離效率(10、100、1,000或10,000)相匹配的過濾介質(zhì)情況下進行原始氣體測量。然后,在不稀釋并插入過濾介質(zhì)的情況下進行清潔氣體測量。稀釋系數(shù)的改變是自動執(zhí)行的。

稀釋系數(shù)的驗證:

集成在MFP Nanoplus中的稀釋系統(tǒng)的工作原理與采用噴射原理的成熟的VKL系列相同。 這種稀釋級聯(lián)的優(yōu)點是傳輸過程清晰、污染程度低而且容易清洗。

圖3:將原始氣體/清潔氣體與10倍NaCl顆粒進行比較來驗證稀釋系統(tǒng)數(shù)

? 使用MFP Nanoplus,可以在MPPS范圍內(nèi)以及整個測量范圍內(nèi)進行餾分分離效率測量。 另外,在相關(guān)的流入速度下,清楚地確定介質(zhì)相關(guān)壓力損失。



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