HPR系列超臨界（高壓）化學反應系統(tǒng)
專為研究超臨界（高壓）化學反應或類似領域的研究人員設計。無論是重復的加壓化學合成、實驗室教學、還是工藝過程的開發(fā)， HPR系列都能很好的滿足用戶的需要。
l 反應釜體積 50ml 至 8 L
l 操作壓力高達10,000 psi （68.9 mPa） , 操作溫度可達500℃
l 材質(zhì)：不銹鋼、哈氏合金、鈦、鉭、鎳等材質(zhì)
l 磁力驅動攪拌
l 安全爆破片
l 彩色觸摸屏控制方式
l RS-232數(shù)據(jù)輸出端口
l 可選反應物添加模式
l 可選配反應釜體視窗
超臨界水氧化與水反應裝置SCWO/SCWR
l 體積：100 mL 至 20 L
l 壓力：5000 psi （345bar）
l 溫度：500℃
超臨界流體技術中超臨界水氧化是挑戰(zhàn)性的應用之一。水的超臨界狀態(tài)，需要超過400℃的高溫及適合的高壓。在氧化過程中產(chǎn)生化學反應性很高的物質(zhì)，釜體內(nèi)襯和管道系統(tǒng)需要特殊的材質(zhì)以解決防腐問題。
控制系統(tǒng)：手動閥和本地過程顯示控制，也可以是計算機遠程操作及數(shù)據(jù)采集。
超臨界流體清洗、干燥、滅菌系統(tǒng)
超臨界流體清洗、干燥、滅菌系統(tǒng)主要包括：電動二氧化碳泵、電子制冷、預熱單元、不同大小的清洗與干燥釜、全自動溫度壓力流量控制系統(tǒng)等。
l 電動二氧化碳泵：*的慢吸快送系統(tǒng)確保被輸送介質(zhì)的流速穩(wěn)定，而且具有恒壓和恒流兩種穩(wěn)定的操作模式。泵頭冷卻裝置采用*的內(nèi)置式電子制冷方式保持泵頭溫度低于-5℃。
l 溫度壓力流量控制系統(tǒng)：溫度控制單元獨立控制釜內(nèi)流體的真實溫度、動靜態(tài)閥的溫度、預熱單元的溫度。恒壓操作模式下，壓力控制單元確保壓力zui大10,000psi，精度在1~2 psi范圍內(nèi)。恒流操作模式下，流量的設定間隔為0.01mL/min。
l 清洗、干燥、滅菌釜體積：10、25、50、100、200、300、500、1000、2000、4000、5000、8000ml可選。
超臨界相平衡儀PM-II
| 3 - 30mL觀測池 | 壓力10,000 psi |
| 溫度為150℃ | 可調(diào)速攪拌器 |
| 水平位置液體物料觀測池 | 垂直位置固體物料觀測池 |
| 視頻檔案記錄系統(tǒng) | 可擴展為帶相檢測功能的超臨界流體萃取儀 |
超臨界相平衡儀PM-II用途：
- 確定二元、三元甚至更為復雜的混合物體系的臨界點
- 確定聚合物的云點（Cloud Point）和聚合物在超臨界流體中的溶漲度及溶漲過程
- 快速研究相態(tài)（Phase Behavior）隨溫度、壓力的變化及變化過程
- 確定樣品在超臨界體系中的溶解度及溶解過程
- 超臨界流體相檢測儀用來研究均質(zhì)混合物中某一組分沉淀或結晶過程
