GDA 750/GDA 550是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學元素含量分析。

   多達79個分析通道，采用PMT檢測器，GDA 750/GDA 550型輝光放電光譜儀是高分辨率、高靈活性和高分析精度的儀器，同時可安裝的高分辨率CCD光學系統(tǒng)(選裝件)，允許同時分析所有元素，具備全譜功能，也可在現(xiàn)有的方法中添加任一元素的任一譜線。

   這種靈活性在實際分析中，尤其對于元素含量和深度測定中至關重要。所有元素，包括輕元素(H，O，N，CI，和C)均可測定。

   在含量-深度測量中，分析深度可達200um以上， 層分辨率可達1納米。GDA 750/GDA 550也可進行基體總量分析，尤其對于復雜基體，具備優(yōu)異的線性校準曲線。檢出限可達亞ppm級。

   GDA 750/GDA 550裝備有一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具，也可進行小樣品和異形樣品的分析，無需更換特殊電極。

   GDA 750也可選裝配置脈沖式射頻光源(選裝件)，用于分析非導體材料。采用脈沖式射頻光源后，可分析非導體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機涂層、有機薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉移室(選裝件)，用于分析極薄的薄膜和在空氣中易氧化的薄膜。

激發(fā)光源
-同一激發(fā)光源允許安裝直徑為1mm至8mm電極，從而保證優(yōu)秀的穩(wěn)定性和重復性
高效的樣品直接冷卻?？芍苯臃治鰺崦舾袠悠?、極薄的金屬薄膜和有機薄膜。如可直接分析50um的不銹鋼薄膜
-優(yōu)化的氬氣流量控制，可以同時實現(xiàn)低檢出限和高深度分辨率
-專門設計的自動清掃裝置，保證了高精度、高重復性測量
-樣品分析厚度45mm，最小厚度50um
-程序自動控制的直流光源(DC)，電壓可達1500V，電流250mA
-程序自動控制的射頻光源(RF)，功率150W，電壓、電流自動監(jiān)控，實時等離子自動調節(jié)、脈沖工作模式(選裝件、僅GDA 750有效)
-選裝件：自動進樣器，程序控制100位

光學系統(tǒng)
-光譜分辨率優(yōu)于20pm(FWHM)
-光譜范圍：190nm--800nm
-Paschen-Runge光學系統(tǒng)， 焦距750mm
-全息原刻光柵，2400線/mm
-出射狹縫，預設所有元素通道
-可同時安裝63個分析通道，選用選裝件(400mm)，可再附加16個分析通道
-方便易操作的透鏡清潔，可立即進行分析
-優(yōu)化的檢測器高壓系統(tǒng)，定量測試時，線性動態(tài)范圍106
-檢測器增益自動調節(jié)
-選裝件：高性能CCD光學系統(tǒng)， 光譜范圍200nm--800nm。光譜分辨率可達0.02nm(FWHM)。與主光學系統(tǒng)同時工作
-CCD光學系統(tǒng)可無限制添加分析通道，真正實現(xiàn)全譜同時測量
-選裝件：單色儀，光譜范圍可擴展至1500nm。可同時安裝3個光柵，獨立工作。

真空系統(tǒng)
-全不銹鋼殼體，可充分保證痕量元素的分析，尤其對于N元素分析
-光室真空采用二級旋轉葉片真空泵，噪音<50dB
-光源使用無油真空泵，免除C，H，O，S，P等元素污染
-內置安全閥設計，以避免突然斷電對旋轉葉片泵的損害
-選裝件：渦輪分子泵

WinGDOES軟件
-WindowsXP或更高平臺運行
-使用界面簡單、易懂，分級管理和操作
-功能強大
-方法建立簡便，在線指導
-校準樣品管理，樣品添加
-多種校準模式
-QDP定量分析校準
-用戶定制測量報告模式
-數(shù)據處理和再處理功能
-多種格式數(shù)據輸出
-分析過程中界面語言切換

應用
-熱處理
精確測量所關心元素的含量-深度分布，定性、定量檢測表面污染物、夾雜物和物相比例
-涂鍍層
可獲得涂鍍層完整的化學組分信息、層厚度，元素含量-深度分布。非導體涂鍍層，如：油漆、釉等可采用RF光源分析
-硬質合金層
快速分析硬質合金層和熱處理工件的滲層化學組分
-陶瓷
采用RF光源可精確可靠的測量
-電鍍
測量電鍍層的復雜結構和過渡界面信息，化學組分含量、層厚、質量分布，也可進行缺陷鑒別和分析
-化學組分
精確測量化學元素含量
高精度、高重復性檢測
快速分析：<60s
可分析從H至U的所有元素， 檢測范圍從ppm至99%
-太陽能電池薄膜
檢測太陽能光伏電池薄膜中化學元素含量分布，如：Cu(In，Ga)Se2

輝光放電光譜儀主要應用領域
-汽車制造及零部件
-金屬加工、制造
-冶金
-航空、航天
-電子工業(yè)
-玻璃、陶瓷
-表面處理：化學氣相沉積、物理氣相沉積等
-電鍍
-光伏電池、鋰電
-科學研究