金屬含量分析儀器
分析金屬成分儀器設(shè)備
能測試Mg, Al, Si, P等元素,能識別全系列的39種鋁合號，測試合金種類鐵合金系列、鎳基合金系列、鈷基合金系列、鈦基合金系列、銅基系列、6. 溫合金、鉬鎢合金、鋁合金、混雜合金系列等
X射線光譜金屬成分分析儀已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于地質(zhì)、采礦、金屬元素（合金材料、鋼鐵成分）、土壤、環(huán)境、考古、木材、電子、醫(yī)藥、環(huán)保等等

我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、液相色譜儀（LC）、能譜儀（EDS）、頻紅外碳硫分析儀（CS Analyzer）、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾（貴金屬及鍍層檢測等）、玩具安全（EN71-3等）,F963中規(guī)定的有害物質(zhì)：鉛Pb、砷Ａs、銻Sb、鋇Ｂa、鎘Cd、鉻Cr、Ｈg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材（水泥、玻璃、陶瓷等）、合金（銅合金、鋁合金、鎂合金等）、冶金（鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等）、地質(zhì)采礦（各種礦石品位檢測設(shè)備）、塑料（無鹵測試等）、石油化工、嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、、商品檢驗、質(zhì)量檢驗、人體微量元素檢驗等等。總之銷售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析，化合物測試，電鍍鍍層厚度檢測。

檢測鋼鐵元素成分含量（含各種合金，不銹鋼等），簡單方便的是X熒光光譜儀，精度更高穩(wěn)定性更好的是實驗室使用的專業(yè)測試鋼材成分設(shè)備的是OES光電直讀光譜儀，介紹如下：

金屬含量分析儀器

儀器介紹：

  手持式儀器簡介：

合金分析儀技術(shù)規(guī)格

直讀光譜儀簡介：

這款CMOS光譜儀，既包含了CCD光譜儀的全譜特性，又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限，整機設(shè)計合理，操作簡單易學(xué)，具有數(shù)據(jù)，長期穩(wěn)定性好等優(yōu)點。

應(yīng)用領(lǐng)域

冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

可檢測基體

鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

主要技術(shù)參數(shù)

v  光學(xué)系統(tǒng)：帕型-龍格 羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)

v  波長范圍：140~680nm

v  光柵焦距：401mm

v  探 測 器：性能CMOS陣列/CCD陣列

v  光源類型：數(shù)字光源，能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）

v  放電頻率：100-1000Hz

v  放電電流：大500A

v  工作電源：AC220V 50/60Hz 1000W

v  檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般20S左右

v  電極類型：鎢材噴射電極

v  分析間隙：4mm

v  其他功能：真空，溫度，軟件自動控制；壓力，通訊監(jiān)測

主要特點

v  性能光學(xué)系統(tǒng)

采用精度的CMOS元件可測定非金屬元素如C、P、S、As、B、N以及各種金屬元素含量；測定結(jié)果，重復(fù)性及長期穩(wěn)定性hao。

v  自動光路校準(zhǔn)

v  插拔式透鏡設(shè)計

真空光學(xué)系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作，光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護方便快捷。

v  真空防返油技術(shù)

v  開放式激發(fā)臺

開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析；配合使用小樣品夾具，線材低分析可達到3mm。

v  噴射電極技術(shù)

v  集成氣路模塊

v  數(shù)字化激發(fā)光源

v  速數(shù)據(jù)采集

儀器采用性能CMOS檢測元件，具有每塊CMOS單獨超速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。

v  以太數(shù)據(jù)傳輸

v  多基體分析

v  軟件中英文系統(tǒng)

儀器軟件操作簡單，*兼容于Windows7/8/10系統(tǒng)。

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