電鍍膜厚分析儀
電鍍膜厚儀器采用分辨率的Si-PIN（或者SDD硅漂移探測(cè)器），測(cè)量精度和測(cè)量結(jié)果業(yè)界。
分析膜厚儀器設(shè)備 X射線熒光技術(shù)測(cè)試鍍層厚度的應(yīng)用，提了大批量生產(chǎn)電鍍產(chǎn)品的檢驗(yàn)條件，無(wú)損、快速和更準(zhǔn)確的特點(diǎn)。

我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長(zhǎng)色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS) 、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計(jì)（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、氣相質(zhì)譜儀（GC-MS）、液相色譜儀（LC）、液相質(zhì)譜儀（LC-MS）、能譜儀（EDS）、高頻紅外碳硫分析儀（CS）、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾（貴金屬及鍍層檢測(cè)等）、玩具安全（EN71-3等）,F963中規(guī)定的有害物質(zhì)：鉛Pb、砷Ａs、銻Sb、鋇Ｂa、鎘Cd、鉻Cr、Ｈg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材（水泥、玻璃、陶瓷等）、合金（銅合金、鋁合金、鎂合金等）、冶金（鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等）、地質(zhì)采礦（各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備）、塑料（無(wú)鹵測(cè)試等）、石油化工、高嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、環(huán)境保護(hù)、香精香料、紡織品、醫(yī)藥、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素和化合物檢驗(yàn)等等。銷售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析，化合物測(cè)試，電鍍鍍層厚度檢測(cè)等。

電鍍膜厚分析儀

產(chǎn)品介紹：

新一代專業(yè)鍍層厚度檢測(cè)儀，采用分辨率的Si-PIN（或者SDD硅漂移探測(cè)器），測(cè)量精度和測(cè)量結(jié)果業(yè)界。

采用了FlexFP-Multi技術(shù)，無(wú)論是生產(chǎn)過(guò)程中的質(zhì)量控制，還是來(lái)料檢驗(yàn)和材料性能檢驗(yàn)中的隨機(jī)抽檢和全檢，我們都會(huì)提供友好的體驗(yàn)和滿足檢測(cè)的需求。

X射線熒光技術(shù)測(cè)試鍍層厚度的應(yīng)用，提了大批量生產(chǎn)電鍍產(chǎn)品的檢驗(yàn)條件，無(wú)損、快速和更準(zhǔn)確的特點(diǎn)，對(duì)在電子和半導(dǎo)體工業(yè)中品質(zhì)的提升有了檢驗(yàn)的保障。

產(chǎn)品指標(biāo)：

測(cè)厚技術(shù)：X射線熒光測(cè)厚技術(shù)

測(cè)試樣品種類：金屬鍍層，合金鍍層

測(cè)量下限：0.003um

測(cè)量上限：30-50um（以材料元素判定）

測(cè)量層數(shù)：10層

測(cè)量用時(shí)：30-120秒

探測(cè)器類型：Si-PIN電制冷

探測(cè)器分辨率：145eV

壓范圍：0-50Kv，50W

X光管參數(shù)：0-50Kv，50W，側(cè)窗類；

光管靶材：Mo靶；

濾光片：3種自動(dòng)切換；

CCD觀察：260萬(wàn)像素

微移動(dòng)范圍：XY15mm

輸入電壓：AC220V，50/60Hz

測(cè)試環(huán)境：非真空條件

數(shù)據(jù)通訊：USB2.0模式

準(zhǔn)直器：?1mm，?2mm，?4mm

軟件方法：FlexFP-Mult

工作區(qū)：開放工作區(qū) 自定義

樣品腔：330×360×100mm

標(biāo)準(zhǔn)配件

樣品固定支架1支

窗口支撐薄膜：100張

保險(xiǎn)管：3支

計(jì)算機(jī)主機(jī)：品牌+雙核

顯示屏：19吋液晶

打印機(jī)：噴墨打印機(jī)

可選配件

可升級(jí)為SDD探測(cè)器

可以實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)一鍵操作功能，準(zhǔn)直器自動(dòng)切換，濾光片自動(dòng)切換，開蓋隨意自動(dòng)停，樣品測(cè)試照片自動(dòng)拍照、自動(dòng)保存，測(cè)試報(bào)告自動(dòng)彈出，供應(yīng)商信息自動(dòng)篩選和保存

電鍍膜厚分析儀