概述：
Labpol 12全自動(dòng)研磨拋光機(jī)設(shè)計(jì)，可輸入所須參數(shù)進(jìn)行編程，保存可供以后使用；
臺(tái)面上帶有旋轉(zhuǎn)盤，由強(qiáng)大的DC馬達(dá)和皮帶驅(qū)動(dòng)，足夠的扭矩力可同時(shí)研磨6個(gè)樣品。平板直徑為12"，轉(zhuǎn)速在50 rpm~ 500 rpm之間可調(diào)，可順時(shí)針或逆時(shí)針方向運(yùn)動(dòng)；
拋光頭可接受一個(gè)可用于6個(gè)樣品的樣品架。樣品尺寸Z高可達(dá)2"。樣品架由馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，以一恒定速度轉(zhuǎn)動(dòng)。1個(gè)6空氣柱被放在旋轉(zhuǎn)樣品架的周圍。每個(gè)空氣柱的活動(dòng)活塞可擴(kuò)展以提供氣壓，并放在每個(gè)樣品點(diǎn)的中心位置。這樣每個(gè)樣品被單獨(dú)放置。樣品的水平狀態(tài)并不重要，套管可用于滿足特別的樣品直徑，因此可減少樣品在拋光時(shí)的傾斜趨勢?？裳心?拋光1個(gè)或Z多6個(gè)樣品；
研磨/拋光頭的旋轉(zhuǎn)能清楚觀察到，因此能輕松更換底盤，可滿足人工操作或研磨；
如采用Auto 6型拋光頭則不會(huì)這麼簡單，因?yàn)橄到y(tǒng)由邏輯控制器草，須通過鍵盤輸入數(shù)據(jù)來操作。程序可通過以下參數(shù)來改變：
☆ 底盤轉(zhuǎn)速；
☆ 拋光或研磨時(shí)間；
☆ 水(用于研磨)；
☆ 底盤旋轉(zhuǎn)方向CW順時(shí)/CCW逆時(shí)；
☆ 滴液單元(用于拋光)開/關(guān)；
輸入?yún)?shù)進(jìn)行特別編程；
Z多有8個(gè)程序可編制和保存，并可連續(xù)使用；
樣品負(fù)載壓力可在5 bar~75psi之間調(diào)整；
在拋光過程中控制應(yīng)用(或滴液) 鉆石懸浮液在壓板上能有效保證拋光的重復(fù)性。Auto 6型有出口可用于滴液單元。2種滴液單元可提供，容量分別為2或4種拋光懸浮液。每個(gè)懸浮的噴霧頭受壓力激活。它們放在底盤的上面，受電子控制可以一定頻率滴出液體?？蛇x配磁力攪拌器放在每個(gè)液體瓶下面，以確保懸浮液攪拌，以防止沉淀；
