一、公司介紹
1）Picosun – ALD者
“世界上沒有一個ALD公司能擁有像Picosun那樣的資質(zhì)。” Picosun的研究歷史和背景始于原子層沉積領(lǐng)域研究起步時期。ALD原子層沉積系統(tǒng)是由Dr. Tuomo Suntola 于1974年在芬蘭發(fā)明的，他現(xiàn)在是Picosun董事會成員之一。Picosun的創(chuàng)建者和技術(shù)執(zhí)行官(CTO)Mr. Sven Lindfors早在1975年已經(jīng)創(chuàng)造出的ALD系統(tǒng)，他被譽為“世界上經(jīng)驗豐富的ALD反應(yīng)器設(shè)計師”。
Picosun是ALD。及國內(nèi)。
如今Picosun持續(xù)致力于ALD系統(tǒng)研究已經(jīng)長達(dá)50多年，研究團(tuán)隊加在一起具有300多年的最直接的原子層沉積專項技術(shù)研究經(jīng)驗。Picosun建立于1997年，核心團(tuán)隊成員都是由具有學(xué)術(shù)專業(yè)水平的科研人員組成，都是ALD方面的專家。Picosun團(tuán)隊，被廣泛譽為“的ALD團(tuán)隊”，已經(jīng)對ALD貢獻(xiàn)了100多項，我們與的研究機構(gòu)和主流的工業(yè)單位密切合作，鞏固了我們在ALD研究的前沿位置。
2）PICOSUN公司的承諾
芬蘭PICOSUN公司ALD系統(tǒng)的設(shè)計保證了能夠?qū)Ω鞣N工藝參數(shù)的嚴(yán)格控制，確保得到極度均勻、高重復(fù)性的高質(zhì)量薄膜。設(shè)備容易操作、高度可靠。
二、R-200 Adv 原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)
1. 腔體：采用雙層腔體結(jié)構(gòu)。
1.1 真空腔體：
（1）加熱溫度≥650℃；
（2）真空腔體無水冷系統(tǒng)；
（3）真空腔體所有接口采用KF法蘭和Viton密封圈密封，腔體漏率低于2x10-8mbar.l/s。
1.2 反應(yīng)腔：
（1）反應(yīng)腔可沉積200 mm基片1個, 兼容小基片；
（2）反應(yīng)腔上配備6個獨立的前軀體源管路接口，與前軀體源管路連接，前驅(qū)體蒸汽相對襯底流動模式為噴灑淋浴模式；
（3）反應(yīng)腔沉積溫度，熱工藝沉積溫度600 °C。
（4）基片加載采用氣動基片加載/卸載系統(tǒng)，由電腦自動控制；
（5）配備顆粒捕捉器及反應(yīng)殘余物燃燒器。
2. 前軀體輸運系統(tǒng)：
（1）配備6路獨立的前軀體源管路。
（2）配置的質(zhì)量流量、壓力傳感器、脈沖閥，采用VCR金屬密封方式密封。
（3）每個液態(tài)源單獨配備帕爾帖（Peltier）溫度控制器1套。
（4）加熱源具用boosting功能，加熱溫度不低于300℃。
3. 等離子模塊：
（1）配備遠(yuǎn)程等離子模塊，包括匹配網(wǎng)絡(luò)、等離子體發(fā)生器、包括4路等離子氣路；
（2）每條管路單獨配置的質(zhì)量流量、壓力傳感器、脈沖閥；
（3）等離子ALD和熱ALD共用一個腔，等離子體發(fā)生器與基底必須保持足夠距離,功率：100-3000W可調(diào)。
4. 真空系統(tǒng)：配備耐腐蝕真空干泵；真空泵抽速≥400m3/h。
5. 預(yù)真空系統(tǒng)：預(yù)真空腔及其配備單獨的干泵，可以傳送200 mm (8英寸) 基片,。
6. 控制系統(tǒng)：
(1) 觸摸屏PC用于ALD反應(yīng)器的操作，的控制軟件和電子電路；人性化的HMI界面，系統(tǒng)可用于處方recipe 模式或手動模式；
(2) 操作界面友好，具備程序儲存、讀取功能，能夠輸出實驗數(shù)據(jù)，顯示24個小時內(nèi)設(shè)備系統(tǒng)各部分參數(shù)的時間趨勢圖，包括各部分質(zhì)量流量、溫度、壓強的時間趨勢圖，用于監(jiān)測設(shè)備穩(wěn)定性；
(3) 沉積過程中監(jiān)測顯示每個源管路的脈沖壓強，顯示脈沖壓強與時間關(guān)系圖，用于監(jiān)測脈沖穩(wěn)定性；
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