SU-8光刻膠品牌：瑞士GES公司提供多種不同組成的、基于IBM開發(fā)的環(huán)氧樹脂膠－SU-8及功能性SU-8光刻膠，能為您帶來(lái)競(jìng)爭(zhēng)力發(fā)展空間；可根據(jù)您的需要提供多種方便使用的、含有不同類型填料、色素、墨水以及溶劑如醋酸酯、芳香烴等的配料光刻膠產(chǎn)品

SU-8光刻膠

品牌： 瑞士GES公司提供多種不同組成的、基于IBM開發(fā)的環(huán)氧樹脂膠－SU-8及功能性SU-8光刻膠，能為您帶來(lái)競(jìng)爭(zhēng)力發(fā)展空間；可根據(jù)您的需要提供多種方便使用的、含有不同類型填料、色素、墨水以及溶劑如醋酸酯、芳香烴等的配料光刻膠產(chǎn)品。

應(yīng)用：GES公司光感環(huán)氧樹脂光刻膠包括的功能性SU-8光刻膠滿足并超越微系統(tǒng)器件廠商的需要，在半導(dǎo)體工業(yè)、微納米技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域具有較強(qiáng)的優(yōu)勢(shì)。使用傳統(tǒng)UV光刻技術(shù)等對(duì)超厚SU-8及功能性SU-8光刻膠進(jìn)行圖案化，廣泛用于MEMS、MOMES、UV-LIGA、顯示器、柔性顯示器、微流道、生物醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體、封裝、太陽(yáng)能、光子晶體、微燃料電池等領(lǐng)域。
GES公司開發(fā)的SU-8及功能性SU-8光刻膠主要用于需要甩膠厚度大、高深寬比并且垂直側(cè)壁形狀的應(yīng)用；能夠使用幾種不同光刻技術(shù)如X射線、紫外及電子束曝光等進(jìn)行圖案制作。

1. GLM 2060 甩膠范圍：5 - 28 µm 可用于絕緣的、低應(yīng)力的、鈍化層 低熱膨脹（CTE 27 (ppm/K)） 低溫工藝95 - 120 °C 其他厚度可根據(jù)要求提供

2. GCM3060 甩膠范圍：1 - 50 µm 導(dǎo)電光刻膠，電導(dǎo)率100-1000000 (S/m)

3. GMC10xx 甩膠范圍：0.8 - 5 µm（GMC1040）、5 – 50 µm（GMC1060）、15 - 200 µm（GMC1070） 在紫外-可見-近紅外波長(zhǎng)做標(biāo)記或?yàn)V光作用 多種顏色如紅色、藍(lán)色、黃色、紫色、綠色等光刻膠可供選擇 其他膠厚可根據(jù)需要提供

4. GMPI 10xx 生物領(lǐng)域應(yīng)用，不含銻 多種膠厚可供選擇

5. 丙烯酸基光刻膠 微流道應(yīng)用 多種膠厚可供選擇

6. GMCD 10xx 濾光、顯示器、隱藏缺陷 黑色 多種膠厚可供選擇

7. GM1010和GM1020 電子束曝光應(yīng)用

8. GCM3060 質(zhì)子束曝光應(yīng)用

9. GM10xx 用于噴墨沉積圖案制作

10. GLMPI2075 激光光刻應(yīng)用

11. GMCNT 含碳納米管SU-8光刻膠，包括絕緣型（SWCNT）和導(dǎo)電型（MWCNT）