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納米級(jí)光學(xué)干涉測厚儀

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詳情納米級(jí)光學(xué)干涉測厚儀應(yīng)用:PET、PE、PMMA等薄膜·離型膜·沉積膜·金屬表面漆膜涂層·膜涂層·塑料涂層產(chǎn)品簡介:PSD-2000型在線納米級(jí)光學(xué)膜厚儀利用光譜相干測量學(xué),用于測量半導(dǎo)體制造過程中的薄膜厚度,以及安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備上的APC和薄膜的質(zhì)量控制,能夠測量單層/多層/涂布層在不透光基板上的厚度,精準(zhǔn)度可達(dá)納米級(jí)

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納米級(jí)光學(xué)干涉測厚儀

應(yīng)用: PET、PE、PMMA等薄膜·離型膜·沉積膜·金屬表面漆膜涂層·膜涂層·塑料涂層

產(chǎn)品簡介

PSD-2000型在線納米級(jí)光學(xué)膜厚儀利用光譜相干測量學(xué),用于測量半導(dǎo)體制造過程中的薄膜厚度,以及安裝在半導(dǎo)體制造設(shè)備上的APC和薄膜的質(zhì)量控制,能夠測量單層/多層/涂布層在不透光基板上的厚度,精準(zhǔn)度可達(dá)納米級(jí)。   

PSD-2000型在線納米級(jí)光學(xué)膜厚儀,其核心部件主要源自于美國Ocean Optics有限公司,其微型光譜儀體積小巧,可對(duì)全譜進(jìn)行快速采集,產(chǎn)品應(yīng)用廣泛,可用于生化、光電、航空航天、環(huán)境保護(hù)、安全檢測、農(nóng)業(yè)等行業(yè),可進(jìn)行 Low-E玻璃鍍膜檢測,ITO玻璃鍍膜檢測,PET涂布在線膜厚檢測,金屬表面涂層檢測,半導(dǎo)體,LCD膜厚檢測等。 

工作原理:分光干涉法

當(dāng)光入射到樣品內(nèi)部,會(huì)發(fā)生多重反射現(xiàn)象,多重反射光會(huì)由于相互之間的相位差增強(qiáng)或減弱,而相位差取決于樣品的折射率和光程,因此來自于樣本的反射光譜與其厚度有直接關(guān)系。光譜干涉法就是利用這種的光譜分析出樣品的厚度,該厚度測量儀器根據(jù)測試范圍的不同主要使用曲線擬合和FFT兩種方法對(duì)光譜進(jìn)行分析。

應(yīng)用范圍: 

?PET薄膜厚度測量

?涂層厚度測量,如HC,保護(hù)膜,光刻膠,OCA,離型膜等涂布厚度或克重的測量

?用于包裝的PET表面介質(zhì)膜克重或膜厚測量

?金屬表面透明和半透明漆膜涂層

 

產(chǎn)品優(yōu)勢:

在線掃描式或多點(diǎn)測量(多達(dá)15點(diǎn))同時(shí)測量

通過光強(qiáng)波動(dòng)校正功能實(shí)現(xiàn)長時(shí)間穩(wěn)定測量

提醒及警報(bào)功能(通過或失敗)

反射(透射)和光譜測量

同步測量多層厚度

高速、高準(zhǔn)確度

 

參數(shù):

型號(hào)

PSD-2000W

PSD-2000P

PSD-2000R

可測膜厚范圍

15 nm - 100 um

2nm - 200 um

200nm-3000um

測量可重復(fù)性

0.02 μm

測量準(zhǔn)確

±1%

光源

鎢鹵素?zé)?/span>

測量波長

380 - 1050 nm

250 - 1050 nm

900 - 1200 nm

光斑尺寸

約φ1 mm

工作距離

10 mm

可測層數(shù)

最多10層

分析

FFT 分析,擬合分析

測量時(shí)間

19 ms/點(diǎn)

外部控制功能

Ethernet

接口

USB 2.0(主單元與電腦接口);RS-232C(光源與電腦接口)

電源

AC100 V — 240 V, 50 Hz/60 Hz

功耗

約330W(2通道)~450W(15通道)



PSD-200實(shí)驗(yàn)室型納米級(jí)光學(xué)干涉測厚儀

          

用途:

·太陽能減反膜玻璃,TCO玻璃,Low-E玻璃,ITO玻璃,光學(xué)玻璃鍍膜等測量。

·PET膜透明膠膜厚測量

·膜厚,顏色,粗糙度,透過率,反射率,霧度

·可用于實(shí)驗(yàn)室離線測量

技術(shù)水平:

·精度0.1%,達(dá)到國際同類產(chǎn)品水平

·檢測透明和半透明涂層

·反射式太陽能玻璃的膜厚/折射率測量儀,具有測量速度快,測量準(zhǔn)確,操作簡便的特點(diǎn)。

 

 

 

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品類型

可見光

紫外+可見光

厚度測量

15nm-100μm

1nm-100μm

折射率

厚度要求100nm以上

厚度要求50nm以上

準(zhǔn)確性

2nm或0.5%

精度

0.1nm

測量時(shí)間

小于1秒

光斑大小

大約1mm



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