PICOSUN™ P-300系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD制 造業(yè)的新標(biāo)準(zhǔn)。擁有的熱壁、獨(dú)立的 前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計(jì)， 確保我們可 以生產(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和 的電學(xué)和光學(xué)性能的高質(zhì)量ALD薄膜。 高效緊湊的設(shè)計(jì)使得維護(hù)更加方便、快捷， 限度的減少了系統(tǒng)的維護(hù)停工期和使用成 本。擁有技術(shù)的Picoflow™使得在超高深 寬比結(jié)構(gòu)上沉積保形性薄膜更高效， 并已在 生產(chǎn)線上得到驗(yàn)證。
PICOSUN™ P-300BV系統(tǒng)代表了的工業(yè) 化ALD工藝水平。這個(gè)系統(tǒng)是為半自動(dòng)化的批 量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。設(shè)備本身針對(duì)快速批量生產(chǎn) 進(jìn)行了優(yōu)化，并允許通過SECS/GEM整合到自 動(dòng)化生產(chǎn)線上。擁有加熱選項(xiàng)的真空加載系 統(tǒng)可以對(duì)敏感的基底進(jìn)行潔凈加工并沉積金 屬氮化物薄膜。
PICOSUN™ P-300BV是創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)行業(yè)的 ALD系統(tǒng)！
襯底尺寸和類型
? 200mm晶圓 25片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）
? 150mm 晶圓 50片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）
? 100mm 晶圓 75片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）
? 非標(biāo)準(zhǔn)晶圓類基底（使用定制夾具）
工藝溫度
? 50 – 450°C
標(biāo)準(zhǔn)工藝
? 批量生產(chǎn)的平均工藝時(shí)間小于10秒/循環(huán)*
? Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬
? 同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片裝載
? 立式半自動(dòng)裝載（一或兩個(gè)cassette位置）
? 裝載室加熱功能可選
前驅(qū)體
? 液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
? 源瓶余量傳感器， 提供清洗和裝源服務(wù)
? 4根獨(dú)立源管線， 最多加載8個(gè)前驅(qū)體源
