概　　述：
儀器采用動(dòng)態(tài)微庫(kù)侖法原理。待測(cè)樣品經(jīng)裂解管中燃燒發(fā)生氧化還原反應(yīng)，由載氣帶入滴定池中轉(zhuǎn)化為可滴定離子，并與電生的I3-或Ag-發(fā)生反應(yīng)，通過(guò)計(jì)算電生I3-或Ag-的電量，根據(jù)法拉第定律，可得到樣品的總硫或總氯含量。

硫含量測(cè)定儀*概　　述：

儀器采用動(dòng)態(tài)微庫(kù)侖法原理。待測(cè)樣品經(jīng)裂解管中燃燒發(fā)生氧化還原反應(yīng)，由載氣帶入滴定池中轉(zhuǎn)化為可滴定離子，并與電生的I3-或Ag-發(fā)生反應(yīng)，通過(guò)計(jì)算電生I3-或Ag-的電量，根據(jù)法拉第定律，可得到樣品的總硫或總氯含量。


符合標(biāo)準(zhǔn)：符合SH/T
0253、SH/T
0254、SH/T
0222、ASTM
D3120、ASTM
D3246等標(biāo)準(zhǔn)?！?/span>



RPR-200型微機(jī)硫氯分析儀、硫含量測(cè)定儀技術(shù)參數(shù)：

測(cè)量范圍：硫　0.1mg/L～10000mg/L

　　　　　　　氯　0.3mg/L～10000mg/L

可測(cè)樣品狀態(tài)：固體、液體、氣體（配相應(yīng)進(jìn)樣器）。

控溫范圍及精度：室溫～1000℃，±1% 

重復(fù)性誤差：　　　　X＜1.0mg/L
Cv≤50%

1.0mg/L≤X≤10mg/LCv≤10%

X＞10mg/LCv≤5% 

儀器成套性：主機(jī)（放大器）、溫控（裂解）系統(tǒng)、攪拌器、進(jìn)樣器、計(jì)算機(jī)（含操作軟件）、打印機(jī)等。



RPR-200型微機(jī)硫氯分析儀、硫含量測(cè)定儀特　　點(diǎn)：

Windows操作平臺(tái)，人機(jī)直接對(duì)話，操作便捷。

計(jì)算機(jī)控制整個(gè)分析、數(shù)據(jù)處理等過(guò)程，顯示全過(guò)程工作狀態(tài)，根據(jù)需要可將參數(shù)、結(jié)果存盤或打印。

儀器采用流行電路和進(jìn)口元器件，減少了儀器噪聲，提高了檢測(cè)靈敏度。

儀器測(cè)量結(jié)果準(zhǔn)確、穩(wěn)定。

硫含量測(cè)定儀適用范圍：用于石油、石油化工、醫(yī)藥、衛(wèi)生、環(huán)保、煤炭、地質(zhì)、冶金、商檢、質(zhì)檢、學(xué)校等生產(chǎn)、科研、監(jiān)測(cè)領(lǐng)域中樣品的總硫或總氯含量分析。