多元素分析儀廣泛應用冶金、鑄造、機械制造、金屬制品、建筑、石油化工、技術監(jiān)督、大專院校、院所等部門，采用全電腦控制全數(shù)字火花光源，運用CCD檢測技術及真空光室可測定非金屬元素以及各種合金元素含量如碳、硫、錳、磷、硅、鉻、鉬、鎳、銅、鈦、鎢、鈷、鉛、鋅、鐵、鋁、鎂、稀土、鈮、釩、硼等元素的分析，實現(xiàn)全譜分析。測定結果，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；

多元素分析儀配置及特點

1、采用真空光室可測定非金屬元素中C、P、S等以及各種合金元素含量，測定結果準確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性。

2、真空光學室結構設計，使真空室容積小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離使入射窗日常清洗維護方便。

3、光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，自動光路校準，譜線接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。

4、激發(fā)臺及氬氣氣路設計，降低了氬氣使用量。靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析。

5、不增加硬件設施的情況下，即可實現(xiàn)多基體分析。相比光電倍增管光譜儀可降低客戶使用成本及使用范圍。

6、采用噴射電極技術。在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度；

7、配上的光譜操作軟件兼容于windows系統(tǒng)。同時可以根據(jù)客戶需求配備各種語言版本。軟件操作簡單即使光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓即可上手使用。

8、采用FPGA、DSP及ARM處理器，具有速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、、激發(fā)光源等模塊的運行狀況。

9、全數(shù)字化等等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數(shù)字激發(fā)脈沖，激發(fā)樣品等離子體能量分辨率和高穩(wěn)定輸出。滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

10、樣品激發(fā)臺采用銅火花臺底座，鎢材料電極；銅火花臺底座為激發(fā)臺提供較好的散熱及等特性，同時鎢電極使用壽命長，等特性也提高了激發(fā)的性能；電極自吹掃功能的設計，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境，也使激發(fā)臺清潔電極容易。

多元素分析儀技術參數(shù)

分析基體：Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb、等

檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右

光學結構：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統(tǒng)

波長范圍：130-800nm

焦距：400mm

光柵刻線：3000條/mm

探測器：CCD陣列

電極：鎢材噴射電極

分析間隙：樣品臺分析間隙：3.4mm

光源類型：全新可調節(jié)數(shù)字化光源，能預燃技術（HEPS）

激發(fā)頻率：100-1000Hz

放電電流：400A

真空系統(tǒng)：真空軟件自動控制、監(jiān)測

儀器體積：860*720*500

凈重：100kg（不含真空系統(tǒng)）

多元素分析儀測量范圍：（因該儀器可檢測的元素較多，現(xiàn)以鋼中C、S、Mn、P、Si、Cr、Ni等常見元素為例）

C：0.020～6.000%S：0.0030～2.000%

Mn：0.010～20.500%P：0.0005～1.0000%

Si：0.010～18.000%Cr：0.010～38.000%

Ni：0.010～48.000%Mo：0.010～7.00%

ΣRE：0.0100～0.500%Mg：0.0100～0.800%

Cu：0.010～8.000%Ti：0.010～5.000%

如多元素分析儀改變測試條件，該范圍可相應擴大。

測量精度：符合GB223.69-08GB223.68-97GB223-2008等標準。