M2型全譜直讀光譜儀產(chǎn)品簡介： 全新立式全譜光譜采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。……

M系列全譜直讀光譜儀采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù)，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運用高分辯率CMOS檢測器，精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)，使儀器具有高性能、極低的成本、以及竟爭力的價格。

M2可應用于多種材料的分析。

01 小巧、輕便、精致、可靠的儀器結(jié)構(gòu)，具有同類型直讀光譜儀異的分析數(shù)據(jù)。

02 超小設(shè)計的光學室結(jié)構(gòu)及優(yōu)化設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)，保證紫外區(qū)元素譜線的透過率。

03 應用高分辯多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流、更好的檢出限、更高的穩(wěn)定性、更強的靈敏度。

04 全數(shù)字化的智能復合光源DDD技術(shù)，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

05 FPGA數(shù)據(jù)采集及以太網(wǎng)網(wǎng)絡數(shù)據(jù)傳輸技術(shù)，保證數(shù)據(jù)一致性及數(shù)據(jù)傳輸速率。

06 內(nèi)置工廠校正曲線及曲線擴展技術(shù)，滿足不同材料的技術(shù)要求。

07互聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)絡技術(shù)及數(shù)據(jù)云儲存。

08 操作簡單、維護成本低、質(zhì)量可靠。

09 竟爭力的價格。

精密設(shè)計的氬氣吹掃系統(tǒng)

光室密封性強，可保持內(nèi)部氬氣長期純凈。

光室空間優(yōu)化設(shè)計，降低氬氣消耗，有效節(jié)約產(chǎn)生成本。

低氬氣吹掃系統(tǒng)，確保光室UV波段測量環(huán)境。

光室充氬免除復雜的真空系統(tǒng)。

高分辯率CMOS檢測器實現(xiàn)全譜分析

譜線覆蓋了所有的重要元素，滿足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區(qū)檢測，對N的分析檢測更準確。

可有效選擇元素靈敏線，保證分析的準確度。

多峰擬合技術(shù)，有效消除譜線干擾，實現(xiàn)精準測量。

分析軟件功能強大

1)        基于Windows系統(tǒng)的多國語言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實用；

2)        管理的控制整個測量過程及為用戶提供強大的數(shù)據(jù)處理能力和測試報告輸出能力；

3)        儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及解決方案；

4)        軟件實現(xiàn)全譜檢測、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；

5)        完備的自動系統(tǒng)診斷功能；

6)        完善的數(shù)據(jù)庫管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)；

7)        智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠；

8)        完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準；

9)      適應的Windows操作系統(tǒng)。

應用領(lǐng)域

主要技術(shù)參數(shù)