XAD系列熒光光譜儀是一款全元素上照式光譜儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，的算法及解譜技術解決了諸多業(yè)界難題。
性能優(yōu)勢：
1、微小樣品檢測：最小測量面積0.0085mm2
2、變焦裝置算法：可改變測量距離
測量面積：最小0.008mm2
鍍層分析：23層鍍層24種元素
儀器特點：RoHS鹵素有害元素檢測
儀器優(yōu)勢：全元素自動分析
儀器簡介：
XAD是一款上照式全元素光譜分析儀，可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚，也可滿足微區(qū)RoHS檢測及多元素成分分析，的算法及解譜技術解決了諸多業(yè)界難題。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。
產(chǎn)品優(yōu)勢：
技術參數(shù)：
1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）
2. 成分檢出限：1ppm
3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）
4. 涂鍍層檢出限：0.005μm
5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm（最小測量面積0.03mm2）
標配：最小測量直徑0.3mm（最小測量面積0.07mm2）
6. 對焦距離：0-30mm
7. 樣品腔尺寸：530mm*570mm*150mm
8. 儀器尺寸：550mm*760mm*635mm
9. 儀器重量：100KG
10. XY軸工作臺移動范圍：100mm*150mm
11. XY軸工作臺承重：15KG
應用領域：
多元迭代EFP核心算法
專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎上，計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法，結合的光路轉換技術、變焦結構設計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)，只需要少量的標樣來校正儀器因子，可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應用：如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應用：如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應用：如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應用：如NiP/Fe，通過EFP算法，在計算鎳磷鍍層厚度的同時，還可精準分析出鎳磷含量比例。
重復鍍層應用：不同層有相同元素，也可精準測量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。
有害元素檢測：RoHS檢測，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）、鎘（Cd）、六價鉻（Cr VI）等有害元素的成分檢測及含量分析
配置清單：
