日本Core syestem 采用的是快速傅里葉變換分析的原理來(lái)實(shí)現(xiàn)非接觸式高精度的表面形狀及缺陷分析，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓，Disk，薄膜等表面形狀及缺陷檢測(cè)，最終結(jié)果可以以數(shù)據(jù)形式或者3D畫面來(lái)展現(xiàn)，非常清晰，立體

日本Core System表面缺陷檢測(cè)設(shè)備是針對(duì)半導(dǎo)體等行業(yè)的表面缺陷的檢查分析儀器。該設(shè)備利用激光掃描樣品的整個(gè)表面，通過(guò)4個(gè)頻道（散射光頻道、反射光頻道、相移頻道及Z頻道）的探測(cè)器所收集到的信號(hào)，快速的將缺陷（包括微粒、劃傷、坑點(diǎn)、污染、痕跡等）進(jìn)行分類，統(tǒng)計(jì)每一種缺陷的數(shù)量并且量測(cè)出相應(yīng)的缺陷尺寸，最后給出整個(gè)表面的缺陷分布圖以及檢測(cè)報(bào)告。根據(jù)預(yù)先設(shè)定的標(biāo)準(zhǔn)，可以給出檢測(cè)樣品合格與否的判斷。所以日本Core System表面缺陷檢測(cè)設(shè)備可以提供高靈敏度的全表面缺陷檢測(cè)和精確的工藝反饋并有助于幫助工廠改善SiC基板質(zhì)量，并優(yōu)化SiC外延和硅基氮化鎵工藝中的外延生長(zhǎng)良率。

所以日本Core System表面缺陷檢測(cè)設(shè)備能夠捕獲對(duì)良率至關(guān)重要的缺陷，包括亞表面基面位錯(cuò)和各種外延堆垛層錯(cuò)，該系統(tǒng)將表面缺陷檢測(cè)和光致發(fā)光技術(shù)集成到同一個(gè)檢測(cè)平臺(tái)，可顯著提升良率并縮短尋找問題根源的時(shí)間