公司介紹
德國HP Spectroscopy公司成立于2012年，致力于為科研及工業(yè)領域的客戶定制解決方案，是科學儀器的供應商和開發(fā)商。產品線包括XAS系統(tǒng)，XUV/VUV/X-ray光譜儀，beamline產品等。主要團隊由x射線、光譜、光柵設計、等離子體物理、beamline等領域的專家組成。并與的研究機構的科學家維持緊密合作，關注前沿技術，保持產品的迭代與創(chuàng)新。
產品簡介
HiXAS提供了完整的基于實驗室拓展X射線精細結構吸收譜(EXAFS)和X射線近邊結構吸收譜（XANES）的解決方案。在較小的占地面積內，它集成了X射線光管光源、高分辨光譜儀、光子技術像素化X射線探測器，以及用于儀器控制和數(shù)據(jù)的分析的控制軟件。
由于hiXAS的光譜質量于同步輻射測量的結果相當，使得冗長的同步輻射測量機時申請和等待變得不再有必要。
X射線光管光源和光譜儀可以覆蓋的能量范圍為5-12KeV，因此包括了3d過度金屬的K吸收邊。專門優(yōu)化的HAPG Von Hamos光譜儀結構可以獲得信噪比的光譜。因此，可分析的樣品濃度可以低至數(shù)個質量百分比。同時光譜儀在覆蓋的吸收邊范圍內，保持很高效率和恒定的高分辨率（E/ΔE = 4000）。我們還可以根據(jù)您的各種應用需要，提供定制化的hiXAS系統(tǒng)。
hiXAS可用于EXAFS和XANES測量的元素范圍。HiXAS可以在幾分鐘的時間內測量出分析物濃度僅為幾個重量百分比的稀釋樣品。
測量結果
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hiXAS可以實現(xiàn)高質量的數(shù)據(jù)采集，能量分辨率與同步輻射相當 | 
單原子催化劑Zn k邊XANES光譜。在分析物濃度低至1wt%的情況下，獲得了與高質量的XANES光譜。hiXAS可以測量稀釋的樣品，提高對氧化狀態(tài)的識別能力 |
hiXAS對元素具有較高的靈敏性，能夠通過吸收邊能量位置實現(xiàn)對元素電子結構及價態(tài)分析。 | 
hiXAS可以測量低濃度樣品，以上為Co樣品XANES光譜。 |
應用案例
 
Cu箔樣品X射線吸收測量，采集時間:3分鐘含樣品，1.5分鐘不含樣品 C. Schlesiger et al, Recent progress in the performance of HAPG based laboratory EXAFS and XANES spectrometers, J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020) |
(a-b) 使用實驗室臺式 XAFS 譜儀測得的 DRM 反應前后 Sm1.5Sr0.5NiO4 材料的 Ni K 邊 XANES 譜圖對比；(c-d) 使用實驗室臺式XAFS譜儀測得的DRM反應前后 Sm1.5Sr0.5NiO4 材料的 Sm L3 邊及 Sr K 邊 XANES 譜圖對比。 |
 
(b) 使用實驗室臺式XAFS 譜儀 hiXAS測得的 Co，Co3O4 及macro-TpBpy-Co 的 Co K 邊吸收譜圖；(c-d) 相應的通過傅里葉變化得到的 R 空間變換譜圖。 |
