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意力博通系列離子濺射

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    儀器名稱:全自動(dòng)離子濺射儀    型號(hào):ETD-800
    原理:二極直流濺射






    儀器名稱:離子濺射儀 型號(hào):ETD-900M
    原理:磁控濺射
    在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
    生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng),因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí),經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過(guò)熱。

    ETD-800參數(shù):
    主機(jī)規(guī)格:260mm×307mm×260mm(W×D×H)
    電源規(guī)格:220V/50HZ
    靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
    靶材:Au
    真空樣品室: 硼硅酸鹽玻璃 115mm×100mm(D×H)
    定時(shí)器: 最長(zhǎng)時(shí)間:3600S
    機(jī)械泵: 1L/S

    電壓:-1200  DCV


    ETD-900M參數(shù):
    主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
    靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
    靶材:Au(標(biāo)配)
    樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
    靶材尺寸:Ф 50mm
    真空指示表: 真空度:≤ 4X10-2 mbar
    離子電流表: 電流:50mA
    定時(shí)器: 最長(zhǎng)時(shí)間:0-360S ?
    微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
    可通入氣體: 多種
    電壓: -1600 DCV ?
    機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國(guó)產(chǎn) VRD-8)

    ETD-800用途:

    適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。

    特點(diǎn):

    可以通過(guò)更換不同的靶材(金、鉑、銀等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。

    一鍵式操作,使用方便。



    ETD-900M用途:

    適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

    特點(diǎn):
    1、簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美。
    2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
    3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
    4、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。
    5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材(金、鉑、銥、銀、銅等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
    6、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。



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