當(dāng)前位置:儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>離子濺射儀> 意力博通系列離子濺射
返回產(chǎn)品中心>意力博通系列離子濺射
參考價(jià) | 面議 |
- 公司名稱 北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 所在地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2023/2/14 11:03:55
- 訪問(wèn)次數(shù) 506
當(dāng)前位置:儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>離子濺射儀> 意力博通系列離子濺射
返回產(chǎn)品中心>參考價(jià) | 面議 |
儀器名稱:全自動(dòng)離子濺射儀 型號(hào):ETD-800
原理:二極直流濺射
儀器名稱:離子濺射儀 型號(hào):ETD-900M
原理:磁控濺射
在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng),因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí),經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過(guò)熱。
電壓:-1200 DCV
ETD-900M參數(shù):
主機(jī)規(guī)格:300mm×360mm×380mm(W×D×H)
靶(上部電極):50mm×0.1mm(D×H)
靶材:Au(標(biāo)配)
樣品室:硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm(D×H)
靶材尺寸:Ф 50mm
真空指示表: 真空度:≤ 4X10-2 mbar
離子電流表: 電流:50mA
定時(shí)器: 最長(zhǎng)時(shí)間:0-360S ?
微型真空氣閥:可連接φ 3mm 軟管
可通入氣體: 多種
電壓: -1600 DCV ?
機(jī)械泵:標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S(國(guó)產(chǎn) VRD-8)
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備。
特點(diǎn):可以通過(guò)更換不同的靶材(金、鉑、銀等),以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層。
一鍵式操作,使用方便。
ETD-900M用途:
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
特點(diǎn):*您想獲取產(chǎn)品的資料:
個(gè)人信息: