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平面刻線衍射光柵

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平面刻線衍射光柵制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。

詳細信息 在線詢價

平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)


制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光潔度:

60-400

尺寸誤差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

60%~80% @閃耀波長

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2(CW)連續(xù)激光



產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

尺寸

刻線數(shù)

閃耀波長

閃耀角

378521

刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378522

刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

500nm

4°18

378523

刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378531

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378532

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378543

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378544

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378545

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378546

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378547

刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378554

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

250nm

8°37

378555

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378556

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378565

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378566

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378567

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378568

刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

50x50x9.5mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'

平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)


制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光潔度:

60-400

尺寸誤差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

60%~80% @閃耀波長

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2(CW)連續(xù)激光


產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

尺寸

刻線數(shù)

閃耀波長

閃耀角

378518

刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378519

刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

500nm

4°18'

378520

刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378527

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

250nm

4°18

378528

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378529

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378538

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378539

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378540

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378541

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378542

刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378551

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

250nm

8°37'

378552

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378553

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378561

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378562

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378563

刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378564

刻線式光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

25x25x6mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'

平面刻線衍射光柵(12.7x12.7x6mm)


制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


75l/mm @10.6μm


100l/mm @10.6μm


150l/mm @10.6μm


300l/mm @300nm


300l/mm @500nm


300l/mm @1000nm


300l/mm @3.5μm


450l/mm @3.1μm


600l/mm @250nm


600l/mm @300nm


600l/mm @400nm


600l/mm @500nm


600l/mm @750nm


600l/mm @1000nm


600l/mm @1250nm


600l/mm @1600nm


1200l/mm @250nm


1200l/mm @300nm


1200l/mm @400nm


1200l/mm @500nm


1200l/mm @750nm


1200l/mm @1000nm


1800l/mm @500nm


特征

材料:

浮法玻璃

表面光潔度:

60-400

尺寸誤差:

±0.5 mm

厚度公差:

±0.5mm

效率:

60%~80% @閃耀波長

有效孔徑:

90%

損傷閾值:

350mJ/cm2@200ns脈沖激光

40W/cm2(CW)連續(xù)激光


產(chǎn)品編號

產(chǎn)品名稱

尺寸

刻線數(shù)

閃耀波長

閃耀角

378515

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

300Lines/mm

300nm

2°34'

378516

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

300Lines/mm

500nm

4°18'

378517

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

300Lines/mm

1000nm

8°36'

378524

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

250nm

4°18'

378525

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

300nm

5°9'

378526

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

400nm

6°53'

378533

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

500nm

8°37'

378534

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

750nm

13°0'

378535

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

1000nm

17°27'

378536

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

1250nm

22°1'

378537

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

600Lines/mm

1600nm

28°41'

378548

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

250nm

8°37'

378549

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

300nm

10°22'

378550

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

400nm

13°53'

378557

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

500nm

17°27'

378558

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

750nm

26°44'

378559

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1200Lines/mm

1000nm

36°52'

378560

刻線式光柵 12.7x12.7x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

12.7x12.7x6mm

1800Lines/mm

500nm

26°44'

制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調(diào)整,可能需要花費幾天進行設(shè)置并在實際刻劃之前進行測試??虅潤C必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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