尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

供電

DC magnetic confinement

 - 電壓

40-300V VDC

 - 離子源直徑

~ 5 cm

 - 陽(yáng)極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-30010A

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

 - 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

 - 陽(yáng)極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

 - 水冷

前板水冷

 - 底座

移動(dòng)或快接法蘭

 - 高度

4.0'

 - 直徑

5.7'

 - 加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

 - 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安裝距離

10-36”

 - 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 1000 應(yīng)用領(lǐng)域:
• 離子輔助鍍膜 IAD
• 預(yù)清洗 Load lock preclean
• 預(yù)清洗 In-situ preclean
• Direct Deposition
• Surface Modification
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors

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• Polymer Substrates