MILA-5000系列
MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進行快速升降溫，潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經濟型退火爐，可以在不同的氣氛下進行加熱。可通過USB連接電腦并進行監(jiān)測與加熱程序設置。
MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高溫型）基礎上升級的一款高真空型退火爐。該系列繼承了MILA-5000系列的的特點：快速升降溫，潔凈加熱，可在不同的氣氛下加熱。同樣可以通過USB連接PC進行溫度監(jiān)測與加熱程序設置。
應用
MILA-5000系列
- 鐵電薄膜的晶體退火。
- 離子注入后的擴散退火，氧化膜沉積退火。
- 硅和復合晶片的燒結，合金化處理。
- 玻璃基板溫度均勻退火。
- 熱循環(huán)，熱沖擊，熱疲勞測試。
- 程序升溫解吸測試，催化效果測試。
MILA-5000UHV
- 在超高真空中進行熱處理。
- 程序升溫解吸氣體分析爐。
特點
MILA-5000系列
- 1. 50℃/S的快速升溫.
- 2. 可在真空，惰性氣體，流動氣氛，空氣的氣氛下進行加熱
- 3. 精確的溫度控制
- 4. 緊湊，桌面型設計
- 5. 通過USB連接電腦與爐體，可進行溫控程序的編輯與傳輸
- 加熱過程中可通過電腦監(jiān)測加熱數(shù)據(jù)
MILA-5000UHV
- 可進行超高真空的熱處理
- 搭配分子泵，真空度可達到10-5Pa
- 繼承了MILA-5000-P-N的全部特點
- 緊湊，桌面型設計
- 通過USB連接電腦與爐體，可進行溫控程序的編輯與傳輸
- 加熱過程中可通過電腦監(jiān)測加熱數(shù)據(jù)
參數(shù)
MILA-5000系列
| 型號 | MILA-5000-P-N (高溫型) | MILA-5000-P-F (均勻加熱型) |
|---|---|---|
| 控溫范圍 | RT ～ 1200 °C | RT ～ 800 °C |
| 樣品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) | |
| 加熱氣氛 | 空氣，靜態(tài)氣氛，流動氣氛，真空 | |
* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
高真空型
| 型號 | MILA-5000UHV |
|---|---|
| 控溫范圍 | RT ～ 1200 °C |
| 樣品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) |
| 加熱氣氛 | 空氣，靜態(tài)氣氛，流動氣氛，真空 |
* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
オプション例
高溫型
MILA-5000-P-N 升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 4kW, 100%output is not
MILA-5000-P-N 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
測溫方式：K型熱電偶
Uniform heating type
MILA5000-P-F升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 1kW, 100%output is not necessay
MILA-5000-P-F 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：N2流動氣氛
測溫方式：K型熱電偶
MILA5000-P-N型昇溫速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力
MILA5000-P-N型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC（K）測定點
均熱型
MILA5000-P-F型昇溫速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力
MILA5000-P-F型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC（K）測定
CCDカメラユニットによるAuの溶融観察
