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| 美國 PVA TePla 等離子表面清洗系統(tǒng) |
| 等離子體清洗是在分子水平上用於精確清潔基材的乾燥，無溶劑技術(shù)。 精密清洗是用於工業(yè)用的應(yīng)用範圍從微電子半導體晶片清洗科研的生物負擔去污廣譜的要求。 實現(xiàn)和製造*方法期間保持表面清潔度在分子水平。
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| 優(yōu)點: • 方便快捷 • 沒有污染物 • 不需要濕化學品 應(yīng)用範圍: • 微電子半導體 • 晶片清洗 • 科研的生物去污
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| 全新! |
| INLINE高產(chǎn)量PECVD系統(tǒng) (Inline High Capacity PECVD Systems) |
| ILHC是一個連續(xù)的高速真空等離子系統(tǒng)。它提供了等離子體輔助化學氣相沉積(PECVD)，蝕刻，清洗和活化在高生產(chǎn)環(huán)境全過程控制。 ILHC是為了滿足廣大客戶的高產(chǎn)能量的要求。它提供了快速的工藝處理時間，的均勻性和精確的厚度控制。它提供*的過程控制，故障安全報警和完整的數(shù)據(jù)采集和報告軟件系統(tǒng)。 ILHC使用射頻(RF)產(chǎn)生的等離子體，結(jié)合*的傳送系統(tǒng)中清楚地闡明和*集成封裝。該設(shè)計便于安裝和維護。 |
| 特性: • 連續(xù)流處理 |
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 可進行多種類界面 |  * 輸出功率高達 ： 每月500,000 devices （基本尺寸 ：1” x 1” Devices） |  * 根據(jù)界面的形狀： 非均勻性降低至5% |
| RF 射頻等離子清洗/鍍膜系統(tǒng) |
| IoN 3B |
| 特性: 腔室尺寸( D x H): 140mm x 200mm x 110mm |
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| IoN 7B |
| 特性: 腔室尺寸( D x H): 200mm x 220mm x 160mm |
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