| 參考價 | 面議 |
EMS300R T大樣品離子濺射鍍膜儀（Large Chamber Sputter Coaters）
適合SEM（掃描電鏡）、FE-SEM（場發(fā)射掃描電鏡）、TEM（透射電鏡）。
EMS300R T 與EMS150R T相似，明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大，達到283mm，采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空；此外，它配備三個獨立的濺射頭，確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。（注意：既能濺射不易氧化金屬，又能濺射易氧化金屬，另見EMS300T T）。
特征參數(shù)：
1、 可以進行超大樣本（直徑至203mm）的金屬鍍膜
2、 三個濺射頭確保濺射沉積質(zhì)量
3、 單靶材選擇功能，可以進行小樣本鍍膜
4、 多種金屬靶材比如金、金/鈀、鉑等可選
5、 選擇裝配膜厚監(jiān)測儀可以精確控制膜厚
6、 全自動觸摸屏控制，快速數(shù)字輸入，操作簡便
7、 可以儲存不同用戶的程序
8、 能夠記錄100個鍍膜細節(jié)
9、 真空自動控制，且具有真空保持功能
10、 落入式樣品臺拆裝方便（標配是旋轉(zhuǎn)樣品臺）
11、 長60分鐘不間斷鍍膜能力
12、 符合人體工程學的整體注塑機身
13、 電氣符合CE要求
14、 三年質(zhì)保
樣品臺：
EMS300R T有多種型號的樣品臺可以選擇，用于滿足目前大部分需求。落入式設計使得不同型號的樣品臺之間更換簡便，樣品臺除了行星臺外其高度均可調(diào)，旋轉(zhuǎn)速度在預設范圍內(nèi)實現(xiàn)可調(diào)。
l 扁平樣品臺，用于晶圓的鍍膜（152mm-203mm），標配
l 旋轉(zhuǎn)樣品臺，50mm，不能傾斜
l 旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺，50mm，高度可調(diào)（靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調(diào)），傾斜角度在0-30度之間
l 用于撥片的旋轉(zhuǎn)臺
l 加高腔室：需要時可以得到（付費）
儀器參數(shù)：
儀器外形尺寸 | 585mm W x 470mm D x 410mm H (total height with coating head open: 650mm) |
重量 | 36.4kg |
包裝尺寸 | 725mm W x 660mm D x 680mm H (44.8kg) |
工作腔室 | 高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H |
安全保護 | 整體PET套筒 |
顯示 | 145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯 |
使用者界面 | 直觀的圖形界面，觸摸鍵。記憶功能：維護提醒及后100個鍍膜方案日志記錄 |
濺射靶材 | 標配三個57 mm Ø x 0.1 mm金靶 (SC502-314A) |
真空：
旋轉(zhuǎn)真空泵 | 50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separay, 91005. |
真空監(jiān)測 | 皮拉尼測量 |
極限真空度 | 潔凈系統(tǒng)可達 2x10-2 mbar，充氮氣 |
樣品臺 | 標配晶圓樣品臺，152mm-203mm，旋轉(zhuǎn)速度可調(diào) |
濺射 | 根據(jù)鍍膜厚度或內(nèi)置的計時器，濺射電流范圍在0-80mA ，長濺射時間不超過60分鐘 |
其它重要信息：
需要氣體 | 氬氣 99.999%，氮氣可選（排氣時需要） |
電源 | 90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. （注意電壓的選擇） |
電氣標準 | 符合電氣CE認證要求 |
訂購信息：
貨號 | 產(chǎn)品名稱 | 規(guī)格 |
EMS300R T | EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold (Au) sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/ａnd 6”/152 mm wafers is fitted as standard | EACH |
91005 | 愛德華旋轉(zhuǎn)真空泵（單獨購買）Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter | EACH |
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