1、產(chǎn)品特點(diǎn)：

      我們一直持續(xù)致力于不斷的探索研究去突破技術(shù)壁壘，以獲得更為高效的測(cè)試過(guò)程及測(cè)試裝置，使測(cè)試性能趨于完美。目前我們?cè)谕絻x器及科學(xué)研究領(lǐng)域所取得的巨大成就已充分證明了這一點(diǎn)。

      新型的EIGER X 系列探測(cè)器可以為要求極為苛刻的同步應(yīng)用提供的探測(cè)性能。具有連續(xù)讀數(shù)能力的千赫茲幀速率的成像能力為時(shí)分類(lèi)實(shí)驗(yàn)和XPCS提供了一種全新的手段，使得像ptychography類(lèi)的慢速掃描成像技術(shù)成為可能。高分辨率和連續(xù)的衍射實(shí)驗(yàn)受益于較小的成像尺寸，通過(guò)X射線(xiàn)的直接轉(zhuǎn)換可以獲得的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)。在理想情況下每單元面積的計(jì)數(shù)速率可以與持續(xù)增加的波速線(xiàn)亮度相匹配。

2、核心優(yōu)勢(shì)：

       - 混合成像計(jì)數(shù)：?jiǎn)喂庾映上裼?jì)數(shù)模式下的X射線(xiàn)直接轉(zhuǎn)換能力

  - 千赫幀速率工作周期> 99%

  - 3μs時(shí)間下的連續(xù)采集模式

  - 5μm像素尺寸的高空間分辨率

  - 的點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)

  - 計(jì)數(shù)器高達(dá)每平方毫米每秒5億張

  - 無(wú)讀出噪聲和暗電流

  - 極其緊湊的外殼

3、應(yīng)用領(lǐng)域：

      -X射線(xiàn)光子相關(guān)光譜(XPCS)

 - Ptychography(疊層衍射)成像技術(shù)

 - 時(shí)間分辨實(shí)驗(yàn)

 - 大分子晶體學(xué)(MX)

 - 單晶衍射(SCD)

 - 粉末衍射(PD)

 - 表面衍射

- 小廣角/X光散射(粉煤灰/蠟)

- X射線(xiàn)成像

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4、技術(shù)參數(shù)：