微波材料學(xué)工作站--微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要用途：★該系統(tǒng)既可用作傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積設(shè)備，又可用作微波能化學(xué)氣相沉積設(shè)備，同時又是微波等離子化學(xué)氣相沉積設(shè)備
★主要為應(yīng)用在半導(dǎo)體, 大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料，石墨烯、納米材料、碳纖維、碳化硅、鍍膜等新材料新工藝領(lǐng)域
★該款具有高電離、高電子溫度和電子密度、適用壓強(qiáng)范圍寬、無內(nèi)部電極污染等優(yōu)異性能，微波等離子體在材料表面處理、金剛石薄膜制備、
化學(xué)氣相沉積、刻蝕以及甲烷轉(zhuǎn)化制氫、長余輝發(fā)光材料、陶瓷燒結(jié)、碳納米管修飾［3］、納米粉體合成、處理水污染等領(lǐng)域
產(chǎn)品特點：★
垂直反應(yīng)器的設(shè)計可使等離子高密度；對稱的微波發(fā)生器裝置，使產(chǎn)生的等離子環(huán)境更均勻★
諧振腔內(nèi)沒有內(nèi)部電極，可以避免電極放電所產(chǎn)生的污染，而且，它的運行氣壓范圍比較寬，所產(chǎn)生等離子體密度高、區(qū)域大，
穩(wěn)定性高，且不與真空器接觸，從而避免了器壁對薄膜的污染★
操作便捷：氣路連接方式采用了KF快速連接法蘭結(jié)構(gòu)，使取放物料過程簡化，只需一支卡箍便可完成氣路連接，方便操作，
取消了復(fù)雜的法蘭安裝過程，減少了安裝造成的損壞
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多功能：4種加熱方式可選可變：微波等離子、純微波、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱；適應(yīng)包括金屬與合金在內(nèi)非易燃的任何樣品的熱處理
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雙溫區(qū)結(jié)構(gòu)：上部等離子區(qū)或加熱區(qū)下部樣品臺加熱區(qū)
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開發(fā)的微波場傳感器，精準(zhǔn)控溫★
安全：采用防止泄漏的聯(lián)鎖保護(hù)屏蔽措施安全可靠的微波屏蔽腔體設(shè)計，多重防泄漏保護(hù)
*標(biāo)配裝有專業(yè)微波抑制器
*內(nèi)置微波泄漏傳感器
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節(jié)能：使用壽命長：磁控管微波加熱，避免和解決了傳統(tǒng)的加熱絲、硅碳棒、硅鉬棒等加熱元件容易損壞的問題，也避免了因加熱元件
損壞而造成的時間、實驗進(jìn)度、維修費用等各種損失
★采用無級可調(diào)、高穩(wěn)定度長壽命、
連續(xù)波微波源，確保設(shè)備能夠連續(xù)穩(wěn)定長時間運行
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嵌入式微機(jī)一體化溫度控制系統(tǒng)；實現(xiàn)穩(wěn)定性控溫★無須烘爐過程：爐腔整體自身發(fā)熱，加熱均勻
★微波能量即開即有,無熱慣性,易于控制溫度
★配有萬向輪調(diào)節(jié)底腳，方便移動和固定
技術(shù)參數(shù)：| 型號/model | WBDQC-4 |
| 可加熱材料 | 非易燃易爆的任何材料 |
| 微波頻率 | 2.45GHZ±50MHz |
| 加熱方式 | 等離子加熱、純微波加熱、傳統(tǒng)電加熱、混合加熱 |
| 大功率/ KW(連續(xù)、可調(diào)) | 4 |
| 樣品腔長度 | 標(biāo)配100mm可根據(jù)用戶需求訂制 |
| 加熱樣品腔(材質(zhì)) | 石英管（微波等離子工作模式） | 石英管&剛玉管（其它加熱方式） |
| 控溫范圍/℃ | 1100℃石英樣品腔直徑：Φ45mm、Φ60mm、Φ100 mm 可選； | 1500℃剛玉樣品腔直徑：Φ45mm、Φ60mm 可選； |
| 溫度測試元件 | 微波場傳感器 |
| 溫度分辨率/℃ | 0.1 |
| 樣品臺溫度范圍 | 室溫-1200℃、更高溫度可選配 |
| 控溫精度/℃ |
1200℃以下±1；1200℃以上±2℃ |
| 溫度偏差/℃ |
| 溫度穩(wěn)定波動度/℃ |
| 冷卻方式 | 風(fēng)冷 |
| 恒溫區(qū)長度/mm | 標(biāo)配100mm可根據(jù)用戶需求訂制 |
| 升溫速率(標(biāo)配) | 0～200℃/min（微波等離子工作模式除外）
任意設(shè)定，可編程、分段加熱 |
| 溫度控制方式 | 10段可設(shè)工藝參數(shù)，7寸觸摸屏操作，帶數(shù)據(jù)存儲功能；提供手動、自動、恒溫控制模式，曲線實時顯示 |
| 控制氣體 | 控制氣體：H2、CH4、Ar、N 2 、其它氣體可選 |
| 流量控制 | 標(biāo)配 2 套質(zhì)量流量控制器：七星華創(chuàng)（真空保護(hù)閥門后置，匹配真空模式）；精度：0.8% |
| 大耐壓 | 1MPa；控制響應(yīng)時間：10ms |
| 真空系統(tǒng)真空泵 | RVP2008；壓力范圍：10 -3 Torr~760 Torr
大抽速：8.5m 3 /h |
| 真空計 | 數(shù)顯真空計：1atm-10 -1 Pa |
| 標(biāo)配 | 質(zhì)量流量自動控制系統(tǒng)配備控制計算機(jī)及控制軟件，可以內(nèi)置實時顯示和保存生長參數(shù) |
| 氣路其他配置 | 氣柜、氣路及閥門等 |
| 端口 | 不銹鋼 KF50 法蘭接口 |
| 電源電壓（V） | 220 |
| 微波泄漏量/ mW/㎝2 | ≤0.4 |
| 外型尺寸（長´寬´高）/mm | 1100×750×1900 |
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選配功能：質(zhì)量流量控制系統(tǒng)；美國Alicat質(zhì)量流量&控制器
