儀器簡介：
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。
優(yōu)異性能：
主真空室腔體直徑18英寸，本底真空可達(dá)高真空：9X10E-9 Torr(要用Load-lock)。
主真空室抽氣系統(tǒng)前級泵采用無油干泵
★基片加熱溫度可達(dá)1000℃。
基片臺可360度旋轉(zhuǎn)(轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào))。
★基片與靶之間方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置?；c靶間距沿Z軸(即垂直地面方向)可調(diào)。
8個裝1英寸靶的坩堝(或靶盤)，各坩堝之間要求相互隔離，不互相污染。
★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.
★ Dual Load Lock System, 兩次裝樣-送樣系統(tǒng)，高效保證傳片精準(zhǔn)
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)設(shè)備及光學(xué)臺可聯(lián)接在一起，始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定。支撐腿帶可調(diào)節(jié)的轉(zhuǎn)輪，方便在地面整體(包括腔體系統(tǒng)和激光器)同時移動與固定。
具體配置：
一， 超高真空腔體
二， 分子泵
三， 激光掃描系統(tǒng)
四， 襯底加熱鉑金片，溫度可達(dá)1200度
五，基板加熱構(gòu)造設(shè)計
六， 基板加熱電源
七， Rheed
八， Rheed軟件
九， 多靶位 ，標(biāo)準(zhǔn)配置6個1英寸靶
十，Load-Lock樣品傳輸腔體
技術(shù)參數(shù)：
一， 靶。
數(shù)量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進(jìn)電機(jī)控制。
二， 基板。
采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境大壓力是300mtorr。
三， 基板加熱電源。
四， 超高真空成膜室腔體。
不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-7 pa。
五， 樣品傳輸室。
不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa。
六， 排氣系統(tǒng)。
分子泵和干式機(jī)械泵，進(jìn)口。
七， 閥門。
采用超高真空擋板閥。
八， 真空檢測。
真空計采用進(jìn)口產(chǎn)品
九， 氣路兩套。
采用氣體流量計(MFC)。
十， 薄膜成長監(jiān)控系統(tǒng)。
采用掃描型Rheed(可差分抽氣)。
十一， 監(jiān)控軟件系統(tǒng)。
基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換。
十二， 各種電流導(dǎo)入及測溫端子。
十三， 其它各種構(gòu)造
各種超高真空位移臺，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等。
另外我公司注重發(fā)展和銷售大面積的PLD 系統(tǒng)和電子束蒸發(fā)器和濺射沉積。目前，公司提供以下物理氣相沉積系統(tǒng)和元件產(chǎn)品：
大面積脈沖激光沉積系統(tǒng)
脈沖激光沉積元件包括靶材操縱器和智能窗
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
磁控和/或離子束濺射系統(tǒng)
組合沉積系統(tǒng)
定制的基底加熱器
產(chǎn)品具有如下基本特點：
1. 系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設(shè)計，操作簡單方便?？墒褂么蟪叽绨胁纳L大面積薄膜，基底的尺寸直徑可從50mm 到200mm
2. 電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門，方便更換基底和靶材
3. 雙軸磁性耦合旋轉(zhuǎn)靶材操縱器，可手動或計算機(jī)控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉(zhuǎn)器上，可手動或電動降低旋轉(zhuǎn)器，實現(xiàn)簡單快速地更換
4. 主腔室預(yù)留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等
5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡、反射鏡臺、動力反射鏡支撐架和智能視窗等，無需頻繁地校準(zhǔn)光學(xué)組件。在激光通過大直徑靶材時可使其光柵掃描化(rastering)，以獲得均勻性的薄膜。智能視窗不僅可精確監(jiān)視沉積過程中的靶材激光注入量(OTLF)，而且可長時間保持激光束光路的清潔
6. 系統(tǒng)使用*的黑體基底加熱設(shè)計，高溫下(950°C)可與銀膠兼容使用
根據(jù)PLD 客戶的不同需求，提供以下型號：
1.NANO PLD
2.PLD 3000
3.PLD 5000
4.PLD 8000
5.PLD T100
其中NANO PLD 系統(tǒng)簡單、緊湊，具有多種功能，非常適合小型的研發(fā)實驗室，大面積 PLD 系統(tǒng)包括PLD 3000，PLD5000，PLD8000 非常適合于大的公共機(jī)構(gòu)，政府實驗室和國防機(jī)構(gòu)的研發(fā)和試制生產(chǎn)。PLD T100 系統(tǒng)也就是高溫超導(dǎo)帶涂層系統(tǒng)非常適合于生產(chǎn)高溫超導(dǎo)帶和線纜，目前已有兩套系統(tǒng)賣到日本的超導(dǎo)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究中心超導(dǎo)工學(xué)研究所(SRL-ISTEC)，而且在高溫超導(dǎo)線纜中獲得了記錄電流密度，創(chuàng)高溫超導(dǎo)線材創(chuàng)新記錄。
大面積PLD 的每個系統(tǒng)的具體一些參數(shù)如下：
| 系統(tǒng) | 大基底尺寸 | 靶材數(shù)目 | 靶材尺寸 | 大基底溫度 | 溫度的均勻性 | 靶材和基底
之間的大距離 |
| Nano-PLD | 2 inches (50 mm) | 3 | 2 inch (75mm) | 850°C/950°C | ±4°C | 100mm |
| PLD3000 | 3 inches (75mm) | 3 | 4 inch (100 mm) | 850°C/950°C | ±3°C | 127mm |
| PLD5000 | 5 inches(125mm) | 3 | 6 inch (150mm) | 850°C/950°C | ±4°C | 152mm |
| PLD8000 | 8 inches(200mm) | 3 | 12 inch(300mm) | 750°C/800°C | ±7°C | 203mm |
這些型號的設(shè)備適用于以下的客戶群：
1) 高溫超導(dǎo)研發(fā)-----合成新的高溫超導(dǎo)材料或者微調(diào)高溫超導(dǎo)材料
2) 高溫超導(dǎo)工業(yè)研發(fā)-----高溫超導(dǎo)線纜和帶沉積，移動通信的微波過濾器，電力分配網(wǎng)的錯誤電流限制器，超導(dǎo)磁能存儲器(SMES)，超導(dǎo)量子干涉磁量儀元素制作，超導(dǎo)電子配件，磁共振成像應(yīng)用，磁懸浮如火車
3) 鐵電材料和設(shè)備-----使用大面積的PLD 研發(fā)
4) 電-光和光學(xué)材料-----電鍍鉻材料，電-光材料如PLZT, BST 等
5) 電介材料---如AlN 薄膜
6) 硬質(zhì)薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜
7) 透明導(dǎo)電氧化物 (TCO) 沉積
8) 測輻射熱敏元素生產(chǎn)商----用于熱跟蹤的熱探測，熱成像，熱度量衡等
9) 制備新材料特別是功能陶瓷
10) 制備納米粒子
11) 基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)聚合物薄膜
12) 制備用于MRAMs 和錄音磁頭上GMR 的鐵磁材料等
