前開門濺射腔體
冷凝泵和干泵
1個(gè)6” 磁控濺射源
射頻電源
側(cè)面濺射
zui大6”基片
基片水冷
PID濺射壓力控制
系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
高速率濺射二氧化薄膜

• 前開門濺射腔體
• 冷凝泵和干泵
• 1個(gè)6” 磁控濺射源
• 射頻電源
• 側(cè)面濺射
• zui大6”基片
• 基片水冷
• PID濺射壓力控制
• 系統(tǒng)手動(dòng)或自動(dòng)控制
• 高速率濺射二氧化薄膜

德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國(guó)磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來，憑著的品質(zhì)，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)，德儀公司的產(chǎn)品為中國(guó)的高校、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持。

                 Sputter 磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
                  E-Beam 電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng) 
                  Thermal 熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
                  PLD 脈沖激光鍍膜系統(tǒng) 
                  Sputter Sources 磁控濺射陰極
                  DC/RF Power Supply 直流/射頻電源
                  E-Beam Sources 電子束蒸發(fā)源 
                  Thermal EVP Sources 熱蒸發(fā)源
                  Deposition Materials 濺射靶材和蒸發(fā)鍍膜材料
                  Sample Manipulator 樣品臺(tái) 
                  Feedthroughs 電子穿導(dǎo)器件
                  Vacuum Valves 真空閥門 
                  Vacuum Components 真空配件 
  
                  的品質(zhì)、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是我們的宗旨！