德儀科技有限公司專業(yè)進口美國磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來，憑著的品質(zhì)，*的技術和周到的技術服務，德儀公司的產(chǎn)品為中國的高校、科研院所及企業(yè)的薄膜沉積工作提供了有力的支持。

我們期待為您提供您使用的真空薄膜沉積設備和部件！

• LOAD LOCK預真空進樣室（可選）
• 前開門濺射腔體
• 冷凝泵和干泵
• 多達6個磁控濺射源
• 直流、射頻或脈沖電源
• 朝上或朝下濺射
• zui大8”基片
• 基片旋轉
• 基片偏壓（可選）
• 基片加熱1000度（可選）
• 基片冷卻（可選）
• 多達四路工藝氣體
• PID濺射壓力控制
• 系統(tǒng)手動或自動控制
• 良好的薄膜均勻性和重復性
• 可沉積金屬、半導體和絕緣材料