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MRC603真空鍍膜機(jī)

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MRC603采用*的立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及特殊結(jié)構(gòu)的陰極,可實(shí)現(xiàn)高濺射,膜厚均勻性和高靶材有效使用率,從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn),可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等,主要用于集成電路制造、平板顯示器、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

 

1、設(shè)備名稱:MRC603真空濺射鍍膜機(jī)
2、設(shè)備品牌:美國(guó)MRC
3、設(shè)備規(guī)格:MRC603
4、設(shè)備介紹:
MRC603采用*的立式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及特殊結(jié)構(gòu)的陰極,可實(shí)現(xiàn)高濺射,膜厚均勻性和高靶材有效使用率,從研發(fā)應(yīng)用到大批量生產(chǎn),可沉積介質(zhì)膜、金屬膜等,主要用于集成電路制造、平板顯示器、光刻掩膜版、通訊網(wǎng)絡(luò)、化合物半導(dǎo)體器件、射頻功率器件和光電子器件等。
本系統(tǒng)可分為預(yù)真空室、濺射區(qū)域、RF離子清洗,預(yù)真空室具有基片承載盤升降機(jī),使得裝卸基片和濺射工藝同時(shí)進(jìn)行,從而實(shí)現(xiàn) “in-line”連續(xù)在線工作方式。12”x12”尺寸的基片承載盤,可放置不同尺寸及形狀的基片。9個(gè)4”基片/次,6個(gè)4”基片/次,1個(gè)12”基片/次。


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