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產(chǎn)品簡介：ME-L是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。可應用于半導體薄膜結構，半導體周期性納米結構，新材料，新物理現(xiàn)象研究，平板顯示，光伏太陽能，功能性涂料，生物和化學工程，塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。
雙旋轉補償器(DRC)配置一次測量全部穆勒矩陣16個元素；配置自動變角器、五維樣件控制平臺等優(yōu)質(zhì)硬件模塊，軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷；豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力。
產(chǎn)品型號 | ME-L全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀 | ||
主要特點 | 1、采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 2、可實現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測量信息量更大，測量速度快、數(shù)據(jù)更加精準 3、基于雙旋轉補償器配置，可一次測量獲得全部穆勒矩陣的16個元素，相對傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測量信息 4、頤光技術確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜 5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 6、集成對納米光柵的分析，可同時測量分析納米結構周期、線寬、線高、側壁角、粗糙度等幾何形貌信息 | ||
技術參數(shù) | 1、應用：科研級/企業(yè)級 2、基本功能：Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜 3、分析光譜：380-1000nm(支持擴展至210-1650nm) 4、單次測量時間：1-8s 5、重復性測量精度：0.005nm 6、精度(直通測量空氣) 橢偏參數(shù):ψ=45±0.05°△=0±0.1° 穆勒矩陣:對角元素m=1±0.005；非對角元素m=0±0.005 7、光斑大小：大光斑2-3mm；微光斑200μm | ||
可選配置 | 波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇 自動:45-90° 手動:55-75°(5°步進),90° 固定:65° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺:室溫一600C(供參考,按需定制) | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺 |
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2 | Mapping擴展模塊 |
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3 | 真空泵 |
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4 | 透射吸附組件 |
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